Dépôt chimique en phase vapeur de carbone amorphe hydrogéné sur des substrats métalliques (TA6V) dans une post-décharge micro-onde assistée par polarisation radio fréquence

Dépôt chimique en phase vapeur de carbone amorphe hydrogéné sur des substrats métalliques (TA6V) dans une post-décharge micro-onde assistée par polarisation radio fréquence PDF Author: Christelle Tixier
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Languages : fr
Pages : 216

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Book Description
DES MELANGES ARGON/METHANE ET ARGON-HYDROGENE/METHANE ONT ETE UTILISES POUR DEPOSER DU CARBONE AMORPHE HYDROGENE DANS UNE POST-DECHARGE MICRO-ONDE ASSISTEE PAR UNE POLARISATION RADIOFREQUENCE. DANS UN PREMIER TEMPS, UNE ETUDE PARAMETRIQUE SUR DES SUBSTRATS DE SILICIUM A PERMIS LE CHOIX D'UN POINT DE FONCTIONNEMENT. LES FILMS ONT GLOBALEMENT LES CARACTERISTIQUES DE CEUX OBTENUS PAR LES TECHNIQUES LES PLUS COURANTES (PECVD RF, FAISCEAUX D'IONS). LEUR DENSITE EST DE 1,5 ET LEUR TENEUR EN HYDROGENE DE L'ORDRE DE 40 AT. %. LA VITESSE DE DEPOT ET LES PROPRIETES DES COUCHES DEPENDENT DE LA TENSION DE POLARISATION R.F. ET DE LA COMPOSITION DE LA PHASE GAZEUSE. PAR AILLEURS, L'ANALYSE SPECTROSCOPIQUE DE LA POST-DECHARGE A PERMIS DE CORRELER L'EMISSION DE LA RAIE CH ET LA VITESSE DE DEPOT. LES FILMS DEPOSES SUR L'ALLIAGE METALLIQUE BASE TITANE SE SONT REVELES NON-ADHERENTS. L'UTILISATION D'UNE SOUS-COUCHE DE TYPE OXYCARBURE DE SILICIUM A PERMIS D'AMELIORER L'ADHERENCE: BIEN QU'UN DECOLLEMENT ADHESIF SOIT ENCORE OBSERVE LORS DES ESSAIS PAR SCRATCH-TEST, LE DECOLLEMENT SYSTEMATIQUE SUR LE TITANE A ETE SUPPRIME ET L'ADHERENCE SUR SILICIUM FORTEMENT AMELIOREE. DES MESURES DE CONTRAINTE DANS LES FILMS ET DES ANALYSES DE L'INTERFACE ONT PERMIS UNE MEILLEURE COMPREHENSION DE L'ORIGINE DES PROBLEMES D'ADHERENCE. D'UNE PART, LA DETERMINATION DE LA CONTRAINTE GLOBALE N'A PAS REVELE DE DIFFERENCES SIGNIFICATIVES ENTRE LES DEUX TYPES DE SUBSTRATS. D'AUTRE PART, DES ANALYSES PAR AES, SIMS ET XPS METTENT EN EVIDENCE L'IMPORTANCE DE L'OXYGENE PRESENT A L'INTERFACE FILM/SUBSTRAT TOUT PARTICULIEREMENT DANS LE CAS DES SUBSTRATS METALLIQUES. ENFIN, UNE SERIE D'ESSAIS A MONTRE LA NECESSITE D'ADAPTER LE PRETRAITEMENT PAR PLASMA AVANT DEPOT A LA NATURE DU SUBSTRAT. LES VALEURS MAXIMALES DE CHARGE CRITIQUE OBTENUES SONT ALORS DE 7 ET 35 N SUR TITANE ET SILICIUM RESPECTIVEMENT

Dépôt chimique en phase vapeur de carbone amorphe hydrogéné sur des substrats métalliques (TA6V) dans une post-décharge micro-onde assistée par polarisation radio fréquence

Dépôt chimique en phase vapeur de carbone amorphe hydrogéné sur des substrats métalliques (TA6V) dans une post-décharge micro-onde assistée par polarisation radio fréquence PDF Author: Christelle Tixier
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Pages : 216

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DES MELANGES ARGON/METHANE ET ARGON-HYDROGENE/METHANE ONT ETE UTILISES POUR DEPOSER DU CARBONE AMORPHE HYDROGENE DANS UNE POST-DECHARGE MICRO-ONDE ASSISTEE PAR UNE POLARISATION RADIOFREQUENCE. DANS UN PREMIER TEMPS, UNE ETUDE PARAMETRIQUE SUR DES SUBSTRATS DE SILICIUM A PERMIS LE CHOIX D'UN POINT DE FONCTIONNEMENT. LES FILMS ONT GLOBALEMENT LES CARACTERISTIQUES DE CEUX OBTENUS PAR LES TECHNIQUES LES PLUS COURANTES (PECVD RF, FAISCEAUX D'IONS). LEUR DENSITE EST DE 1,5 ET LEUR TENEUR EN HYDROGENE DE L'ORDRE DE 40 AT. %. LA VITESSE DE DEPOT ET LES PROPRIETES DES COUCHES DEPENDENT DE LA TENSION DE POLARISATION R.F. ET DE LA COMPOSITION DE LA PHASE GAZEUSE. PAR AILLEURS, L'ANALYSE SPECTROSCOPIQUE DE LA POST-DECHARGE A PERMIS DE CORRELER L'EMISSION DE LA RAIE CH ET LA VITESSE DE DEPOT. LES FILMS DEPOSES SUR L'ALLIAGE METALLIQUE BASE TITANE SE SONT REVELES NON-ADHERENTS. L'UTILISATION D'UNE SOUS-COUCHE DE TYPE OXYCARBURE DE SILICIUM A PERMIS D'AMELIORER L'ADHERENCE: BIEN QU'UN DECOLLEMENT ADHESIF SOIT ENCORE OBSERVE LORS DES ESSAIS PAR SCRATCH-TEST, LE DECOLLEMENT SYSTEMATIQUE SUR LE TITANE A ETE SUPPRIME ET L'ADHERENCE SUR SILICIUM FORTEMENT AMELIOREE. DES MESURES DE CONTRAINTE DANS LES FILMS ET DES ANALYSES DE L'INTERFACE ONT PERMIS UNE MEILLEURE COMPREHENSION DE L'ORIGINE DES PROBLEMES D'ADHERENCE. D'UNE PART, LA DETERMINATION DE LA CONTRAINTE GLOBALE N'A PAS REVELE DE DIFFERENCES SIGNIFICATIVES ENTRE LES DEUX TYPES DE SUBSTRATS. D'AUTRE PART, DES ANALYSES PAR AES, SIMS ET XPS METTENT EN EVIDENCE L'IMPORTANCE DE L'OXYGENE PRESENT A L'INTERFACE FILM/SUBSTRAT TOUT PARTICULIEREMENT DANS LE CAS DES SUBSTRATS METALLIQUES. ENFIN, UNE SERIE D'ESSAIS A MONTRE LA NECESSITE D'ADAPTER LE PRETRAITEMENT PAR PLASMA AVANT DEPOT A LA NATURE DU SUBSTRAT. LES VALEURS MAXIMALES DE CHARGE CRITIQUE OBTENUES SONT ALORS DE 7 ET 35 N SUR TITANE ET SILICIUM RESPECTIVEMENT

Carbonitrures hydrogénés obtenus par dépôt chimique en phase vapeur assisté par un plasma réactif

Carbonitrures hydrogénés obtenus par dépôt chimique en phase vapeur assisté par un plasma réactif PDF Author: Martine Ricci
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Languages : fr
Pages : 122

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Book Description
GRACE A UN DISPOSITIF DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR ASSISTE PAR UN PLASMA REACTIF, NOUS AVONS PU ELABORER DES MATERIAUX DANS DES ETATS METASTABLES. UNE ANALYSE DES CONTRAINTES EXPERIMENTALES ET PLUS PARTICULIEREMENT UNE ETUDE DE L'INFLUENCE DES MELANGES GAZEUX PRECURSEURS A PERMIS DE METTE EN EVIDENCE L'EXISTENCE DE TROIS TYPES DE DEPOTS: UN CARBONE AMORPHE HYDROGENE, UN PYROCARBONE BASSE TEMPERATURE ET UN CARBONITRURE HYDROGENE QUI A MONTRE LA REACTIVITE DE L'AZOTE ET DU METHANE DES LA TEMPERATURE AMBIANTE. NOUS AVONS ALORS DEVELOPPE LA CHIMIE SOUS PLASMA ET L'ASPECT MECANISMES REACTIONNELS. ENSUITE LA STRUCTURE ET LES PROPRIETES PHYSIQUES DE CES CARBONITRURES HYDROGENES ONT ETE ETUDIEES GRACE A L'UTILISATION DE TECHNIQUES DE CARACTERISATION PHYSICO-CHIMIQUES. L'ETUDE DE LA STABILITE THERMIQUE A MONTRE QUE LA PRESENCE D'AZOTE DANS LE FILM REND CELUI-CI INFUSIBLE, THERMOSTABLE ET DUR. UNE MODELISATION DE L'EVOLUTION STRUCTURALE EST FAITE EN FONCTION DES TRAITEMENTS THERMIQUES PERMETTANT D'ETABLIR UNE RELATION ENTRE STRUCTURE ET PROPRIETES

ETUDE D'UNE DECHARGE MICRO-ONDE D'HYDROGENE (EN VUE DU DEPOT DE DIAMANT)

ETUDE D'UNE DECHARGE MICRO-ONDE D'HYDROGENE (EN VUE DU DEPOT DE DIAMANT) PDF Author: LAURENT.. TOMASINI
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Languages : fr
Pages : 157

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CE TRAVAIL A CONSISTE EN L'ETUDE EXPERIMENTALE (COUPLEE A UN CODE CINETIQUE) D'UNE DECHARGE MICRO-ONDE (2.45 GHZ) D'HYDROGENE DE PETIT DIAMETRE (8 ET 16 MM) ENTRETENUE PAR ONDE DE SURFACE, EN VUE DE DEPOSER DU DIAMANT PAR PECVD (DEPOT CHIMIQUE EN PHASE GAZEUSE ASSISTE PAR UN PLASMA H#2-CH#4). PLUSIEURS PRECISIONS CONCERNANT LA RECOMBINAISON HETEROGENE DES ATOMES H A LA PAROI DU TUBE A DECHARGE ONT MONTRE SON INFLUENCE CONSIDERABLE SUR LA CINETIQUE DU PLASMA, ET, L'IMPOSSIBILITE DE CONNAITRE PRECISEMENT LA PROBABILITE DE RECOMBINAISON (PARAMETRE D'ENTREE DU CODE AJUSTE AUX MESURES EXPERIMENTALES), DU FAIT DE L'INHOMOGENEITE DE L'ETAT DE SURFACE DU TUBE ; NOUS NE POUVONS ESTIMER QUE DES ORDRES DE GRANDEUR DE CETTE PROBABILITE. POUR CELA, NOUS AVONS UTILISE LA FLUORESCENCE (FIL) ET DE L'EMISSION STIMULEE INDUITES PAR LASER (ESIL). DE PLUS, L'ABSORPTION DU SIGNAL D'ESIL PAR LES ATOMES H(N=2) NOUS A PERMIS DE MESURER LEUR CONCENTRATION (QUELQUES 10#1#1 CM#-#3). L'AMELIORATION DU CODE PASSE AUSSI PAR LA CONNAISSANCE DE LA TEMPERATURE DU GAZ. NOUS AVONS CONSTATE QUE LA TEMPERATURE ROTATIONNELLE EST DIFFERENTE DE CELLE-CI A 1 TORR. DE PLUS, LES MESURES D'ELARGISSEMENT DOPPLER MONTRENT QUE LA TEMPERATURE CINETIQUE DES ATOMES (MESUREE AUSSI PAR FIL) EST SUPERIEURE A CELLE DES MOLECULES: LA DECHARGE EST DONC EN DESEQUILIBRE THERMIQUE. CES TEMPERATURES SONT CONTROLEES PAR LA RELAXATION DES ATOMES H SUR LES MOLECULES H#2, PUIS DES NEUTRES SUR LA PAROI. PLUS LA FRACTION ATOMIQUE EST FAIBLE, PLUS CES TEMPERATURES SONT FAIBLES. ELLES DEPENDENT DONC DES TRANSFERTS ENERGETIQUES A LA PAROI, D'OU LA NECESSITE DE CONTROLER LA TEMPERATURE DE CELLE-CI. CES INFORMATIONS SUR NOTRE DECHARGE MICRO-ONDE D'HYDROGENE DE PETIT DIAMETRE NOUS A PERMIS DE METTRE AU POINT UN REACTEUR (DIATOMEE) DE GRAND DIAMETRE (10 CM) FONCTIONNANT A 915 MHZ, AVEC DE FORTES PUISSANCES (30 KW) ET UN ECOULEMENT DE GAZ EN CIRCUIT FERME (DU FAIT DES FORTS FLUX DE GAZ)