Propriétés statiques et dynamiques du transistor à effet de champ à grille isolée PDF Download
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Author: Pierre Rossel (physicien.)
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 280
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Author: Pierre Rossel (physicien.)
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 280
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Author: Pierre Rossel
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 285
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ETUDE DES PROPRIETES STATISTIQUES DU TRANSISTOR MOS DANS LES DEUX MODES DE FONCTIONNEMENT CORRESPONDANT RESPECTIVEMENT AU REGIME NON PINCE, OU LA CONDITION D'UNIDIMENSIONNALITE EST RESPECTEE, ET AU REGIME DE SATURATION OU DE PINCEMENT, OU UNE ANALYSE BIDIMENSIONNELLE EST A PRIORI INDISPENSABLE. ETUDE DU COMPORTEMENT EN HAUTES FREQUENCES DU TRANSISTOR MOS: ANALYSE THEORIQUE DE LA ZONE ACTIVE DU COMPOSANT EN VUE DE DETERMINER LES ELEMENTS DE LA MATRICE ADMITTANCE "INTRINSEQUE", IDENTIFICATION ET CARACTERISATION DES ELEMENTS PARASITES ET SCHEMA EQUIVALENT GLOBAL. ANALYSE DE DIVERS CRITERES DE PERFORMANCE DU TRANSISTOR, EN PARTICULIER LE GAIN EN PUISSANCE AFIN DE DEFINIR LES METHODES D'UTILISATION OU DE CONCEPTION DES COMPOSANTS MOS DESTINES A L'AMPLIFICATION EN HAUTES FREQUENCES
Author: Pierre Rossel
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 284
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Author: Jacques Graffeuil
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 231
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ETUDE DES PROPRIETES STATIQUES ET DYNAMIQUES PETITS SIGNAUX DU TRANSISTOR A EFFET DE CHAMP A BARRIERE DE SCHOTTKY SUR GAAS. ANALYSE DES PROPRIETES EN BRUITS DE CE DISPOSITIF ET DE LA COUCHE EPITAXIALE QUI EN REPRESENTE LE CONSTITUANT ESSENTIEL. LES RESULTATS OBTENUS REPONDENT A LA PLUPART DES BESOINS QUI AVAIENT MOTIVE CETTE ETUDE EN PARTICULIER: ETABLISSEMENT DES MODELES PERMETTANT DE SIMULER LES CARACTERISTIQUES STATIQUES DYNAMIQUES ET EN BRUIT DE FOND DES TRANSISTORS MESFET, DEVELOPPEMENT DES TECHNIQUES DE MESURE ADAPTEES A LA DETERMINATION DES PARAMETRES CARACTERISANT LES PROPRIETES DES TRANSISTORS, APPLICATION DE CES RESULTATS A LA CONCEPTION ASSISTEE DES MESFET.
Author: Chérifa Azizi (auteur d'une thèse en sciences).)
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 181
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ANALYSE DES PARAMETRES FONDAMENTAUX REGISSANT LE COMPORTEMENT STATIQUE. ETUDE DU COMPORTEMENT EXPERIMENTAL EN ZONE OHMIQUE ET EN ZONE SATUREE. MISE EN EVIDENCE D'UN PHENOMENE DE RELAXATION TRES BASSE FREQUENCE QUI AFFECTE NOTABLEMENT LA VALEUR DE LA CONDUCTANCE DE SORTIE. ETUDE DU COMPORTEMENT DU COMPOSANT EN TOUTES FREQUENCES. DETERMINATION THEORIQUE AU MOYEN DE L'INTEGRATION DES EQUATIONS DE TRANSPORT EN REGIME DYNAMIQUE DES ELEMENTS DE LA MATRICE ADMITTANCE ASSOCIES A LA ZONE ACTIVE DU CANAL DE CONDUCTION.
Author:
Publisher:
ISBN:
Category : Physics
Languages : en
Pages : 468
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Author: Michel Belmas
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 119
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Author: F. van de Wiele
Publisher: Springer
ISBN:
Category : Technology & Engineering
Languages : en
Pages : 890
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An Advanced Study Institute on process and device modeling for integrated circuit design was held in Louvain-la-Neuve. Belgium on July 19-29. 1977 under the auspices of the Scientific Affairs Division of NATO. The Institute was organized by a scientific organizing committee consisting of Professor F. Van de Wiele of the Universite Catholique de Louvain. Professor W. L. Engl of the Technische Hochschule Aachen and Professor P. Jespers of the Universite Catholique de Louvain. This book represents the contributions of the lecturers at the Institute and the chapters present a concise treatment of a very timely subject. namely. process and device modeling for integrated circuit design. The organization of the book parallels the program at the Institute with an introd0ction ·comprised of a review of mo deling and basic semiconductor physics. This is followed by the chapters devoted to basic technologies. modeling of bipolar and MoS devices. The last chapter of the book presents the specific topic of process modeling. The subject matter of this book is suitable for a wide range of interests from the advanced student. through the practisihg physicist and engineer. to the research worker. Although a novice may find some difficulty with the mathematical development. he can acquire a perspective into the field of process and device modeling for integrated circuit design with this bDOk. Likewise. portions of this book may be used as a textbook since the chap ters are intructional and self-contained.
Author: Arlette Marty
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 176
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CE TRAVAIL S'INSCRIT DANS LE CADRE DE L'ETUDE D'UN TRANSISTOR BIPOLAIRE COMPATIBLE AVEC LA TECHNOLOGIE CMOS DU CENTRE NATIONAL D'ETUDES DES TELECOMMUNICATIONS DE MEYLAN. DANS UN PREMIER TEMPS, LA STRUCTURE DU COMPOSANT EST PRESENTEE: ELLE EST DERIVEE DE CELLE DU TRANSISTOR PMOS ET SA SPECIFICITE EST L'UTILISATION D'UN CAISSON DE PHOSPHORE IMPLANTE A HAUTE ENERGIE EN TANT QUE COLLECTEUR. NOUS DECRIVONS LES PROCEDURES ET LES OUTILS DE CARACTERISATION MIS EN JEU. APRES AVOIR EXPOSE LES EFFETS COLLECTEURS, NOUS PROCEDONS A UNE ETUDE APPROFONDIE DU COMPORTEMENT DU COLLECTEUR IMPLANTE A HAUTE ENERGIE AU MOYEN DE LA SIMULATION: LES MECANISMES PROVOQUANT LA DEGRADATION DES PERFORMANCES A FORT NIVEAU DE COURANT SONT MIS EN EVIDENCE. L'INFLUENCE DE LA SILICIURATION SUR LES CARACTERISTIQUES ELECTRIQUES DU TRANSISTOR EST ANALYSEE. A PARTIR DE MESURES STATIQUES, DYNAMIQUES ET DES RESULTATS OBTENUS SUR DES OSCILLATEURS EN ANNEAU ECL, NOUS DONNONS UNE EVALUATION DU DISPOSITIF POUR DEUX TYPES DE COLLECTEURS: UN COLLECTEUR CORRESPONDANT AU CAISSON DU PMOS ET UN COLLECTEUR PLUS FORTEMENT DOPE. CES PERFORMANCES SONT COMPAREES A CELLE DE TRANSISTORS DONT LE COLLECTEUR EST CONSTITUE D'UNE COUCHE ENTERREE ET D'UNE EPITAXIE. AINSI, NOUS MONTRONS QUE LA TECHNOLOGIE BICMOS DEVELOPPEE CORRESPOND A UN EXCELLENT COMPROMIS COUT-PERFORMANCE. ENFIN, L'INTEGRATION DU COMPOSANT DANS UN CIRCUIT UTILISABLE DANS LES TELECOMMUNICATIONS PROUVE QUE CETTE TECHNOLOGIE EST ADAPTEE AUX APPLICATIONS FONCTIONNANT JUSQU'A DES FREQUENCES DE QUELQUES GIGAHERTZ
Author: Jean-Jacques Cabot
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 140
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