ETUDE PAR MICROSCOPIE ELECTRONIQUE DU SILICIUM DOPE PAR DEPOT ET RECUIT LASER

ETUDE PAR MICROSCOPIE ELECTRONIQUE DU SILICIUM DOPE PAR DEPOT ET RECUIT LASER PDF Author: FREDERIC.. BROUTET
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Languages : fr
Pages : 214

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ETUDE AU MICROSCOPE ELECTRONIQUE DES EFFETS LIES A LA DIFFUSION INDUITE PAR LASER. MISE EN EVIDENCE DE CELLULES DE SEGREGATION ANALOGUES A CELLES CREEES APRES IMPLANTATION ET RECUIT LASER POUR UN DOPAGE A L'INDIUM ET AU GALLIUM, ET DE STRUCTURES ORIGINALES DE SEGREGATION POUR LE BISMUTH. PARFAITE RECRISTALLISATION DE L'ECHANTILLON. PROPOSITION D'UN MODELE SIMPLIFIE DECRIVANT LA DIFFUSION INDUITE PAR LASER

ETUDE PAR MICROSCOPIE ELECTRONIQUE DU SILICIUM DOPE PAR DEPOT ET RECUIT LASER

ETUDE PAR MICROSCOPIE ELECTRONIQUE DU SILICIUM DOPE PAR DEPOT ET RECUIT LASER PDF Author: FREDERIC.. BROUTET
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Pages : 214

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ETUDE AU MICROSCOPE ELECTRONIQUE DES EFFETS LIES A LA DIFFUSION INDUITE PAR LASER. MISE EN EVIDENCE DE CELLULES DE SEGREGATION ANALOGUES A CELLES CREEES APRES IMPLANTATION ET RECUIT LASER POUR UN DOPAGE A L'INDIUM ET AU GALLIUM, ET DE STRUCTURES ORIGINALES DE SEGREGATION POUR LE BISMUTH. PARFAITE RECRISTALLISATION DE L'ECHANTILLON. PROPOSITION D'UN MODELE SIMPLIFIE DECRIVANT LA DIFFUSION INDUITE PAR LASER

Raman lasers and amplifiers in silicon photonics

Raman lasers and amplifiers in silicon photonics PDF Author: Mohammad Ahmadi
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Languages : en
Pages : 0

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Le silicium est le fondement de la microélectronique, pour laquelle des milliards de dollars et des décennies de recherche ont été consacrés au développement de l'industrie de la fabrication. Après avoir surmonté un certain nombre d'obstacles techniques difficiles, cette technologie a atteint une maturité, une rentabilité et un processus robuste. La photonique à base de silicium a récemment fait l'objet d'une grande attention en raison de la demande mondiale croissante de données issues des télécommunications. Le silicium, matériau transparent dans les spectres du proche et du moyen infrarouge, permet de concevoir des circuits optiques basés sur cette plate-forme. Tirant parti de l'infrastructure et de l'expertise de la fabrication microélectronique moderne, la photonique de silicium offre de nombreux avantages attrayants en réduisant la taille, la consommation d'énergie et le coût de fabrication, ainsi qu'un grand potentiel de production de masse. Les progrès récents de la photonique de silicium ont permis aux concepteurs d'avoir accès à des librairies de blocs de construction passifs et actifs tels que des multiplexeurs, des résonateurs en anneau, des modulateurs, des photodétecteurs, etc. Ces avancées ont incité les chercheurs à exploiter cette plateforme dans divers domaines allant de la détection à la médecine. L'un des défis de la recherche sur la photonique du silicium est de développer une source de lumière et un amplificateur compatible avec le silicium en raison des bandes interdites indirectes du silicium et du germanium. Plusieurs solutions sont actuellement à l'étude pour fournir des sources de lumière sur puce, qui sont réalisées comme suit : lasers à commande électrique par manipulation de la bande interdite et méthodes de co-intégration ou lasers à commande optique par co-intégration de matériaux de gain, dopage d'un matériau de revêtement avec des ions de terres rares, ou utilisation d'effets non linéaires pour convertir la fréquence. La manipulation de la bande interdite implique l'ingénierie de la bande interdite des matériaux du groupe IV avec des souches ou des alliages pour améliorer l'émission directe de la bande interdite. Les techniques de co-intégration comprennent la croissance épitaxiale hétérogène ou le collage de matériaux du groupe III-V sur le guide d'ondes en silicium pour concevoir un laser ou tirer parti de caractéristiques à gain élevé. Le dopage d'une gaine de verre avec des éléments de terres rares comme le thulium, l'holmium, l'erbium avec des guides d'ondes spécialement conçus pour former une cavité laser a également été proposé comme solution. La conversion de fréquence par des effets non linéaires dans les guides d'ondes en silicium est une autre approche de la génération de lumière sur puce qui peut être réalisée sans aucun post-traitement des puces en silicium sur isolant (SOI). Par exemple, dans le silicium, la non-linéarité du troisième ordre permet la génération de peignes, la génération de supercontinuum, l'oscillation paramétrique optique et l'émission Raman. Parmi celles-ci, la diffusion Raman-Stokes stimulée (SRSS) peut être avantageusement utilisée pour la conversion et l'amplification des longueurs d'onde, car elle ne nécessite pas d'ingénierie de dispersion. Le gain Raman du silicium a donc été exploité dans la conception de divers lasers et amplificateurs sur puce. Les lasers et amplificateurs Raman sur puce utilisent des conceptions simples et ont jusqu'à présent été réalisés principalement avec des tranches de silicium relativement épaisses. Dans ce travail, nous profitons du gain Raman pour étudier, modéliser, concevoir et démontrer expérimentalement un laser et un amplificateur Raman. Nos recherches s'appuient sur une fonderie à accès libre offrant des plaquettes SOI standard avec une épaisseur de silicium de 220 nm. Dans notre première contribution, nous présentons un modèle complet pour un laser Raman CW dans une plateforme SOI. Nous concevons ensuite un laser Raman de 2,232 μm avec une cavité résonante en anneau sur puce. Les valeurs optimisées pour la longueur de la cavité et les rapports de couplage de puissance sont déterminés par la simulation numérique des performances du laser en tenant compte des variations de fabrication. Enfin, en concevant un coupleur directionnel (DC) accordable pour la cavité laser, une conception robuste du laser Raman est présentée. Nous montrons que la réduction des pertes de propagation et l'élimination des porteurs libres, par l'utilisation d'une jonction p-i-n, amélioreront de manière significative les performances du laser Raman en termes de réduction de la puissance de seuil et d'augmentation de l'efficacité de la pente. Dans notre deuxième contribution, nous démontrons un laser Raman accordable de haute performance qui convertit la gamme de longueur d'onde de pompe de 1530 nm - 1600 nm à la gamme de signal de 1662 nm- 1745 nm avec une puissance de sortie moyenne de 3 mW à ~50 mW de puissance de pompe avec un seul dispositif. La caractéristique principale de ce laser est l'utilisation d'un mécanisme de couplage accordable pour ajuster les coefficients de couplage de la pompe et du signal dans la cavité en anneau et compenser les erreurs de fabrication. Nos résultats sont très prometteurs pour l'augmentation substantielle des ressources spectrales optiques disponibles sur une puce de silicium. Nous démontrons également, pour la première fois, un laser Raman dans l'infrarouge moyen générant un signal à 2,231 μm avec une pompe à 2 μm et étudions les défis d'obtenir une émission cette bande. Notre dernière contribution est dédiée à l'amplificateur Raman, nous discutons et validons expérimentalement l'importance de considérer le gain Raman non-réciproque en utilisant une pompe et une sonde contre-propagatives ou co-propagatives, différentes longueurs d'amplificateur, puissances de pompe d'entrée et valeurs de perte non-linéaire. Nous démontrons un circuit optique sans perte assisté par Raman dans un guide d'ondes de 1,2 cm de longueur qui atteint un gain net nul avec seulement 60 mW de pompage en puissance continue. Nous examinons les pertes non linéaires des guides d'ondes en silicium pour estimer la durée de vie des porteurs libres (FCL), puis nous extrayons le coefficient de gain Raman du guide d'ondes photonique en silicium. Nous utilisons ensuite ces paramètres clés comme entrée d'un modèle d'amplificateur Raman photonique au silicium pour trouver la performance optimale en fonction de l'encombrement et de la puissance de pompage disponibles.

ETUDE PAR DIFFRACTION DES RAYONS X, SPECTOMETRIE RAMAN, ELLIPSOMETRIE, DIFFRACTION D'ELECTRONS SOUS INCIDENCE RASANTE, MICROSCOPIE ELECTRONIQUE A BALAYAGE, DU SILICIUM DOPE AU PHOSPHORE PAR IMPLANTATION IONIQUE

ETUDE PAR DIFFRACTION DES RAYONS X, SPECTOMETRIE RAMAN, ELLIPSOMETRIE, DIFFRACTION D'ELECTRONS SOUS INCIDENCE RASANTE, MICROSCOPIE ELECTRONIQUE A BALAYAGE, DU SILICIUM DOPE AU PHOSPHORE PAR IMPLANTATION IONIQUE PDF Author: René BISARO
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 208

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Book Description
MODELE DE REPARTITION DU DESORDRE A TEMPERATURE AMBIANTE EN FONCTION DE L'ENERGIE D'IMPLANTATION. INFLUENCE DE L'HOMOGENEITE DE LA DOSE SUR LA DISTRIBUTION DU DESORDRE AU SEIN DU SILICIUM. EFFET DE PENOMBRE. DETERMINATION DES DOSES AMORPHISANTES. INFLUENCE DE LA DOSE, DE L'ENERGIE ET DU FLUX D'IONS IMPLANTES SUR LE DESORDRE. ETUDE DU RECUIT DES ZONES IMPLANTEES

ICREEC 2019

ICREEC 2019 PDF Author: Ahmed Belasri
Publisher: Springer Nature
ISBN: 9811554447
Category : Technology & Engineering
Languages : en
Pages : 659

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Book Description
This book highlights peer reviewed articles from the 1st International Conference on Renewable Energy and Energy Conversion, ICREEC 2019, held at Oran in Algeria. It presents recent advances, brings together researchers and professionals in the area and presents a platform to exchange ideas and establish opportunities for a sustainable future. Topics covered in this proceedings, but not limited to, are photovoltaic systems, bioenergy, laser and plasma technology, fluid and flow for energy, software for energy and impact of energy on the environment.

Antifascisms

Antifascisms PDF Author: David Ward
Publisher: Fairleigh Dickinson Univ Press
ISBN: 9780838636763
Category : History
Languages : en
Pages : 260

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This book is an in-depth analysis of three of the most crucial years in twentieth-century Italian history, the years 1943-46. After more than two decades of a Fascist regime and a disastrous war experience during which Italy changed sides, these years saw the laying of the political and cultural foundations for what has since become known as Italy's First Republic. Drawing on texts from the literature, film, journalism, and political debate of the period, Antifascisms offers a thorough survey of the personalities and positions that informed the decisions taken in this crucial phase of modern Italian history.

ZnO Thin Films

ZnO Thin Films PDF Author: Paolo Mele
Publisher:
ISBN: 9781536160864
Category : Zinc oxide thin films
Languages : en
Pages : 0

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Book Description
Zinc oxide (ZnO) is an n-type semiconductor with versatile applications such as optical devices in ultraviolet region, piezoelectric transducers, transparent electrode for solar cells and gas sensors. This book "ZnO Thin Films: Properties, Performance and Applications" gives a deep insight in the intriguing science of zinc oxide thin films. It is devoted to cover the most recent advances and reviews the state of the art of ZnO thin films applications involving energy harvesting, microelectronics, magnetic devices, photocatalysis, photovoltaics, optics, thermoelectricity, piezoelectricity, electrochemistry, temperature sensing. It serves as a fundamental information source on the techniques and methodologies involved in zinc oxide thin films growth, characterization, post-deposition plasma treatments and device processing. This book will be invaluable to the experts to consolidate their knowledge and provide insight and inspiration to beginners wishing to learn about zinc oxide thin films.

Tile & Till

Tile & Till PDF Author:
Publisher:
ISBN:
Category : Pharmacy
Languages : en
Pages : 536

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Alphaherpesviruses

Alphaherpesviruses PDF Author: Sandra Knowles Weller
Publisher: Caister Academic Press Limited
ISBN: 9781904455769
Category : Science
Languages : en
Pages : 0

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Book Description
Alphaherpesviruses are a fascinating group of DNA viruses that includes important human pathogens such as herpes simplex virus type 1 (HSV-1), HSV-2, and varicella-zoster virus (VZV): the causative agents of cold sores, genital ulcerous disease, and chickenpox/shingles, respectively. A key attribute of these viruses is their ability to establish lifelong latent infection in the peripheral nervous system of the host. Such persistence requires subversion of the host's immune system and intrinsic antiviral defense mechanisms. Understanding the mechanisms of the immune evasion and what triggers viral reactivation is a major challenge for today's researchers. This has prompted enormous research efforts into understanding the molecular and cellular biology of these viruses. This up-to-date and comprehensive volume aims to distill the most important research in this area providing a timely overview of the field. Topics covered include: transcriptional regulation, DNA replication, translational control, virus entry and capsid assembly, the role of microRNAs in infection and oncolytic vectors for cancer therapy. In addition there is coverage of virus-host interactions, including apoptosis, subversion of host protein quality control and DNA damage response pathways, autophagy, establishment and reactivation from latency, interferon responses, immunity and vaccine development. Essential reading for everyone working with alphaherpesviruses and of interest to all virologists working on latent infections.

Type & Typo

Type & Typo PDF Author:
Publisher: Omair Nazir
ISBN:
Category :
Languages : en
Pages : 18

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The Acharnians

The Acharnians PDF Author: Aristophanes
Publisher: BoD – Books on Demand
ISBN: 3734064104
Category : Fiction
Languages : en
Pages : 66

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Reproduction of the original: The Acharnians by Aristophanes