Contribution à l'étude du transistor bipolaire hyperfréquence sur puce de silicium PDF Download
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Author: Mamadou Mustapha Ndoye (auteur d'une thèse de doctorat en électronique).)
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Ce travail est une contribution à l'étude du transistor bipolaire hyperfréquence sur puce de silicium. Il présente tout d'abord deux méthodes originales permettant de réduire la Capacité extrinsèque Base-Collecteur, d'augmenter la tension de claquage Base-Collecteur, d'augmenter la tension Early VA, d'augmenter le gain en puissance maximal Gpmax et d'augmenter la fréquence de transition FT. Il présente ensuite un nouveau transistor, de structure hybride entre le NPN vertical et le NPN latéral, baptisé bipolaire-CLEV (à Collecteur Latéral-Emetteur Vertical). Ce travail est généralisable à d'autres technologies de transistors hyperfréquences telles que les transistors à substrats III-V ou les transistors à hétérojonctions.
Author: Mamadou Mustapha Ndoye (auteur d'une thèse de doctorat en électronique).)
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Ce travail est une contribution à l'étude du transistor bipolaire hyperfréquence sur puce de silicium. Il présente tout d'abord deux méthodes originales permettant de réduire la Capacité extrinsèque Base-Collecteur, d'augmenter la tension de claquage Base-Collecteur, d'augmenter la tension Early VA, d'augmenter le gain en puissance maximal Gpmax et d'augmenter la fréquence de transition FT. Il présente ensuite un nouveau transistor, de structure hybride entre le NPN vertical et le NPN latéral, baptisé bipolaire-CLEV (à Collecteur Latéral-Emetteur Vertical). Ce travail est généralisable à d'autres technologies de transistors hyperfréquences telles que les transistors à substrats III-V ou les transistors à hétérojonctions.
Author: Jean Du Port de Pontcharra
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Author: P.. CAZENAVE
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Languages : fr
Pages : 6
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CONSIDERATIONS TECHNOLOGIQUES SUR LES TRANSISTORS D'ETUDE (RAPPEL DE LA TECHNOLOGIE PLANAR, DESCRIPTION DES GEOMETRIES UTILISEES, ETUDE DES PROFILS DE DIFFUSION ET DU PHENOMENE DE REPULSION DE BASE, ETUDE DES ELEMENTS PARASITES D'ACCES AU TRANSISTOR). VUE D'ENSEMBLE SUR LES MODELES MATHEMATIQUES DU TRANSISTOR BIPOLAIRE (MODELES NON LINEAIRES DU TYPE EBERS MOLL, REPARTIS, DE LINVILL, DE BEAUFOY ET SPARKES ET MODELES LINEAIRES). ELEMENTS D'ETUDE STATISTIQUE DU TRANSISTOR BIPOLAIRE (MODELE IBIS ET APPLICATION DE CE MODELE AUX TRANSISTORS D'ETUDE, CONSIDERATIONS SUR CERTAINES INSUFFISANCES DU MODELE IBIS). APPLICATION DU MODELE DYNAMIQUE BIRD AUX TRANSISTORS HYPERFREQUENCES
Author: Jean Du Port de Pontcharra
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Languages : fr
Pages : 97
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Author: Yves Druelle
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Languages : fr
Pages : 6
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Cette étude porte sur quelques fonctionnements limites du transistor bipolaire microonde. Dans une première partie, une utilisation particulière du transistor au-dessus de la fréquence de transition est envisagée. Le transistor est considéré comme un dipole à injection thermoionique et à temps de transit, entre l'émetteur et le collecteur, le circuit de base étant conçu pour annuler le courant HF de base. Il est montré, tant sur le plan théorique qu'expérimental, que ce dispositif présente une résistance négative en hyperfréquences, pouvant constituer l'élément actif d'un oscillateur. Une étude systématique des effets parasites du circuit extérieur de base et des effets parasites intrinsèques (effet Early), est effectuée et des améliorations technologiques sont proposées. Dans une deuxième partie le transistor est considéré en amplificateur de puissance en régime classe B ou C. L'influence du profil de dopage de collecteur sur le phénomène d'élargissement de la base est analysée. En particulier une comparaison est faite entre une structure à profil de collecteur "Hi-Lo" et une structure à profil de collecteur "plat" classique. Dans la troisième partie, le phénomène de défocalisation du courant en régime dynamique classe C est étudié théoriquement, pour un transistor à homojonction Silicium d'une part, et pour un transistor à hétérojonction (TBH) d'autre part. Cette étude conduit à une optimisation de la largeur du doigt d'émetteur du TBH à 3 et 5 GHZ. Enfin, on donne une tentative de vérification expérimentale sur un TBH GaAlAs/GaAs.
Author: ALAIN.. MORETTO
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Languages : fr
Pages : 204
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LA TECHNOLOGIE BICMOS COMBINE, SUR UN MEME CRISTAL, DES TRANSISTORS MOS ET BIPOLAIRES DESTINES A DES APPLICATIONS MIXTES NUMERIQUES ET ANALOGIQUES RAPIDES. ELLE FAIT INTERVENIR DES TRANSISTORS BIPOLAIRES A EMETTEUR POLYCRISTALLIN DONT L'EMETTEUR EST COMPOSE D'UNE COUCHE DE SILICIUM POLYCRISTALLIN DE CONTACT, D'UNE ZONE ACTIVE MONOCRISTALLINE ET D'UNE COUCHE INTERFACIALE D'OXYDE. NOTRE ETUDE EST AXEE SUR L'IMPORTANCE DE LA MINCE COUCHE D'OXYDE A L'INTERFACE POLY/MONO: SA PRESENCE EST INDISPENSABLE POUR FOURNIR UN PRODUIT GAIN EN COURANT X POTENTIEL DE EARLY PERFORMANT ; EN REVANCHE, SON EPAISSEUR DOIT ETRE LIMITEE POUR EVITER DES CONSEQUENCES NEFASTES (RESISTANCE D'ACCES A L'EMETTEUR TROP ELEVEE, REPONSE EN FREQUENCE TROP LIMITEE). DANS UN PREMIER TEMPS, QUELQUES ELEMENTS DE LA PHYSIQUE DES TRANSISTORS BIPOLAIRES SONT PRESENTES PUIS NOUS RAPPELERONS LES ETAPES TECHNOLOGIQUES DE FABRICATION EN METTANT EN EVIDENCE LES LIENS AVEC LES PERFORMANCES ELECTRIQUES DU TRANSISTOR SUBMICRONIQUE. L'ETUDE DE LA COUCHE D'OXYDE EST MENEE DE FACON ORIGINALE GRACE A L'UTILISATION DE DIFFERENTES APPROCHES COMPLEMENTAIRES ET CONVERGENTES (MICROSCOPIE ELECTRONIQUE, MODELISATION ET SIMULATION DE LA RESISTANCE D'EMETTEUR, MESURES STATIQUES, DYNAMIQUES ET EN BRUIT). EN OUTRE, L'ANALYSE DES DIFFERENTES CONTRIBUTIONS AU TEMPS DU VOL DES PORTEURS DANS LE TRANSISTOR PERMET DE MONTRER L'IMPORTANCE RELATIVE DE L'EMETTEUR POLYCRISTALLIN (ENVIRON 30% AVEC UNE EPAISSEUR D'OXYDE AUSSI MINCE QUE 8 A)
Author: Monique Hyvernaud
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Languages : fr
Pages : 203
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Author: Amina Tachafine
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Languages : fr
Pages : 278
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Ce travail porte sur la modélisation unidimensionnelle et bidimensionnelle du transistor bipolaire à hétéro jonction (tbh) de la filière gainp/gaas en régime statique non stationnaire, pour l'optimisation des composants en vue de la réalisation d'amplificateurs monolithiques de puissance à hauts rendements en classes a, b et c, en bande x. Nous avons pour cela développé des modèles physiques hydrodynamiques non stationnaires à une et deux dimensions. Ils se distinguent par leur complémentarité car si le modèle bidimensionnel permet une description plus complète des phénomènes physiques dans le composant, le modèle unidimensionnel est quant à lui mieux adapté à une étude d'optimisation de structure. Ces modèles ont permis de décrire les principaux phénomènes physiques dans la structure de tbh, depuis le mécanisme de transport dans le composant jusqu'aux principaux effets physiques limitatifs pour un fonctionnement en régime de forte puissance: l'effet kirk, responsable de la dégradation des performances du transistor en gain et fréquences de coupure en régime de forte injection, et l'effet de claquage par avalanche de la jonction base-collecteur. Pour reculer ces limitations nous avons étudié l'influence des paramètres technologiques sur ces effets néfastes. Nous avons envisagé plusieurs configurations de la zone de collecteur avec des profils de dopage appropriés ainsi que l'utilisation de matériaux peu ionisants tel que le gainp. Pour la zone d'émetteur, nous avons évalué l'importance de l'effet de défocalisation et proposons une largeur de doigt optimale pour l'obtention de puissances de sortie maximales en bande x. Cette étude conduit à la définition d'une première structure sensiblement optimale de tbh présentant des fréquences de transition supérieures à 50 ghz, des gains en courant statiques supérieurs à 20, avec des tensions d'avalanche collecteur-base supérieures à 22 v
Author: Antonio Muñoz Yagüe
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Languages : fr
Pages : 198
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