Author: FRANCOIS.. ROCHET
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 182

Get Book Here

Book Description
ETUDE DES PHENOMENES DE TRANSPORT LORS DE L'OXYDATION THERMIQUE DE SI A 930, A UNE PRESSION DE CENT TORR D'OXYGENE SEC POUR DES FILMS D'OXYDE D'EPAISSEUR SUPERIEURE A 20 MANOMETRES ET MISE EN EVIDENCE DE DEUX MECANISMES. DE LA MEME FACON, ETUDE DE LA NITRURATION THERMIQUE A TRES BASSE PRESSION D'AMMONIAC

Author: JEAN-JACQUES.. GANEM
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages :

Get Book Here

Book Description
L'ETUDE DES MECANISMES DE CROISSANCE DE NITRURE DE SILICIUM PAR TRAITEMENT THERMIQUE RAPIDE A ETABLI L'EXISTENCE D'UN REGIME INITIAL RAPIDE, ASSOCIE A LA NITRURATION DE L'INTERFACE SILICIUM/DIELECTRIQUE, SUIVI D'UN REGIME PLUS LENT LIMITE PAR LE TRANSPORT DES ESPECES NITRURANTES, DANS UNE SEULE DIRECTION, A TRAVERS LE FILM FORME. LA NITRURATION DE L'OXYDE DE SILICIUM EST CARACTERISEE PAR LA DIFFUSION DES ESPECES QUI REAGISSENT AVEC LA SILICE. L'OBSERVATION DE L'OXYDATION THERMIQUE RAPIDE DU SILICIUM, REALISEE SOUS ATMOSPHERE STATIQUE D'OXYGENE ISOTOPIQUEMENT MARQUE, SUGGERE UNE EXPLICATION QUI RENDRAIT COMPTE DU REGIME INITIAL RAPIDE: L'APPARITION, DANS LES PREMIERES SECONDES, DE DEBRIS DE SILICIUM CRISTALLIN DANS L'OXYDE FORME