Étude théorique et experimentale du transistor à effet de champ à hétérojonction AlGaAs/GaAs

Étude théorique et experimentale du transistor à effet de champ à hétérojonction AlGaAs/GaAs PDF Author: Christophe Versnaeyen
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Languages : fr
Pages : 224

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Book Description
Modélisation de la structure grille-hétérojonction. Caractérisation physique du transistor TEGFET. Caractérisation dynamique du composant TEGFET. Détermination du schéma équivalent.

Étude théorique et experimentale du transistor à effet de champ à hétérojonction AlGaAs/GaAs

Étude théorique et experimentale du transistor à effet de champ à hétérojonction AlGaAs/GaAs PDF Author: Christophe Versnaeyen
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Languages : fr
Pages : 224

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Modélisation de la structure grille-hétérojonction. Caractérisation physique du transistor TEGFET. Caractérisation dynamique du composant TEGFET. Détermination du schéma équivalent.

Optimisation théorique et expérimentale des transistors à effet de champ multicanaux à gaz bidimensionnel d'électrons AlGaAs/GaAs pour l'amplification de puissance en hyperfréquences

Optimisation théorique et expérimentale des transistors à effet de champ multicanaux à gaz bidimensionnel d'électrons AlGaAs/GaAs pour l'amplification de puissance en hyperfréquences PDF Author: Farid Temçamani
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Languages : fr
Pages : 134

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Le transistor à effet de champ à gaz bidimensionnel d'électrons (TEGFET) a montré une meilleure montée en fréquence que le transistor MESFET. Cependant, ses performances en puissance étaient soumises à des limitations physiques profondes. C'est ce problème qui a fait l'objet de ce travail. Une première étude théorique et expérimentale de la tension de claquage a permis d'en expliquer l'origine et d'aboutir à une structure spéciale ayant une bonne tenue en claquage. Ensuite une étude plus générale nous a permis par l'utilisation de TEGFET multicouches optimaux d'aboutir à des performances intéressantes de puissance. La suite du travail a concerné les corrélations entre les paramètres technologiques et électriques avec les performances de puissance. Enfin, l'étude a été complétée par une investigation des problèmes relatifs à la résistance de source et à l'impédance de sortie. Nous avons mis ainsi en évidence un des problèmes essentiels posés par le comportement des transistors à effet de champs millimétriques de puissance.

Transistor à effet de champ, à hétérojonction et grille isolée

Transistor à effet de champ, à hétérojonction et grille isolée PDF Author: Poul-Erik Schmidt
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Languages : en
Pages : 176

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This work is devoted to the study of Semiconductor Insulator Semiconductor Field Effect Transistors (SISFET), a promising device for integrated circuits, since very good threshold voltage control and uniformity can be obtained, and it should be possible to realize complementary circuits. During this work we have for the first time successfully grown and processed pseudomorphic GaAs/GalnAs/A1GaAs SISFET.From electrical measurements and modelling the residual doping level, and the effective barrier height of the A10.4Ga0.6As barrier layer has been deduced. Photoluminescense measurements have been performed on the pseudomorphic structures in order to determine the Indium content of the GainAs layer.A self-aligned technology has been established in order to fabricate high performance devices. The process includes first an anisotropic etch of the gate using Reactive Ion Etching. Next a silicon nitride sidewall is formed. A self-aligned ion implantation followed by rapid thermal annealing is used to form highly doped source and drain contacts. DC characterizations are presented. For 1μm SISFETs state-of-the-art results have been obtained, with a transconductance of 240 mS/mm. The transconductance of the pseudomorphic SISFET is even higher with a maximum value of 273 mS/mm. Our SISFET's have a source resistance of only 0.16 Ωmm which is the lowest ever reported. A very good on-wafer threshold voltage uniformity has been obtained with a standard deviation of only 11mV for the conventional SISFETs.Hot electron effects have been observed and are discussed. We show that this induces a negative differential resistance regime in the the drain current characteristics

Sur l'étude des transistors bipolaires à hétérojonction GaAlAs/GaAs

Sur l'étude des transistors bipolaires à hétérojonction GaAlAs/GaAs PDF Author: Antoine Marty
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Languages : fr
Pages : 245

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ETUDE THEORIQUE ET EXPERIMENTALE DES TRANSISTORS BIPOLAIRES GAALAS(N)/GAAS(P)/GAAS(N). ANALYSE DU COMPORTEMENT ELECTRIQUE DES HETEROJONCTION ET PROPOSITION D'UN MODELE DE DIFFUSION DU TYPE A CONTROLE DE CHARGE. ETUDE DES PROPRIETES DES TRANSISTORS BIPOLAIRES A HETEROJONCTION. ETUDE EXPERIMENTALE DES HETEROJONCTIONS ET HETEROTRANSISTORS GAALAS/GAAS

Modélisation de transistors à effet de champ à hétérojonctions

Modélisation de transistors à effet de champ à hétérojonctions PDF Author: Didier Depreeuw
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Languages : fr
Pages : 229

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Les auteurs développent une méthode générale de modélisation permettant de prendre en compte tous les phénomènes se produisant dans les transistors à effet de champ GaAs et GaAlAs (MESFET, ...). Le modèle est appliqué à l'étude du MISFET AlGaAs/GaAs. D'autre part, les auteurs exposent une théorie analytique sans paramètres ajustables permettant de modéliser la résistance différentielle négative due au transfert électronique dans l'espace réel.

Microwave and Millimeter-wave Heterostructure Transistors and Their Applications

Microwave and Millimeter-wave Heterostructure Transistors and Their Applications PDF Author: Fazal Ali
Publisher: Artech House Publishers
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Category : Technology & Engineering
Languages : en
Pages : 510

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Tells the reader all he ever wanted to know about heterojunction transistors and their applications -- a good set of technical papers that leaves very few unanswered questions. -- Microwave Journal

Etude théorique et expérimentale de transistors à effet de champ à canaux quasi-unidimentionnels

Etude théorique et expérimentale de transistors à effet de champ à canaux quasi-unidimentionnels PDF Author: Sylvain Bollaert
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Languages : fr
Pages : 119

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Ce travail consiste en une etude theorique et experimentale des transistors a effet de champ a canaux quasi-unidimensionnels sur couche pseudomorphique gaalas/gainas/gaas (sc-hemts). La structure de ce transistor est telle que l'espace entre la source et le drain est forme de fins canaux conducteurs, sur lesquels une electrode de grille est deposee. La repartition des charges sous la grille ainsi que les lois de commande de ces charges ont ete determinees grace a la resolution bidimensionnelle auto coherente de l'equation de poisson et de la statistique de fermi-dirac. L'interet d'une telle structure reside dans le fait que la repartition des electrons de la couche active gainas est controlee suivant deux directions, ce qui permet d'obtenir un gaz d'electrons quasi-unidimensionnel. Un autre effet important est l'amelioration de l'efficacite de commande de charges d'un sc-hemt par rapport a un hemt. Les lois de commande de charges associees a l'utilisation du modele de transport electronique du logiciel helena a permis la determination des caracteristiques electriques du sc-hemt. Nous avons pu ainsi definir la geometrie optimum du sc-hemt. Nous avons ensuite mis au point les etapes technologiques necessaires a la realisation des sc-hemts, ce qui nous a conduit a la caracterisation de ses grandeurs electriques, et a leur comparaison a celles des hemts. Les mesures des parametres scattering du composant dans une gamme de frequences de 1.5ghz a 40 ghz nous ont permis de determiner le schema equivalent petit signal et les differents gains du transistor. Ainsi une transconductance intrinseque de l'ordre de 1s/mm a ete obtenue avec un sc-hemt de longueur de grille 0.3 m et de largeur de canaux 1000a, qui constitue une amelioration d'environ 60 % par rapport au hemt. Nous avons pu egalement observer des valeurs de conductance de sortie reduites. Les caracteristiques obtenues avec le sc-hemt sont en bon accord avec les resultats de nos modelisations.

Modulation-doped Field-effect Transistors

Modulation-doped Field-effect Transistors PDF Author: Heinrich Daembkes
Publisher: Institute of Electrical & Electronics Engineers(IEEE)
ISBN:
Category : Technology & Engineering
Languages : en
Pages : 484

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TRANSISTORS A EFFET DE CHAMP A HETEROJONCTION A GRILLE SUBMICROMETRIQUE

TRANSISTORS A EFFET DE CHAMP A HETEROJONCTION A GRILLE SUBMICROMETRIQUE PDF Author: KHALED.. YAZBEK
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Languages : fr
Pages : 250

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AFIN D'ETUDIER LES PERFORMANCES DES TRANSISTORS HEMTS STANDARD ALGAAS/GAAS ET PSEUDOMORPHIQUE ALGAAS/INGAAS/GAAS A GRILLE ULTRACOURTE, NOUS AVONS DEVELOPPE DES MOYENS LOGICIELS PERMETTANT L'ANALYSE RAPIDE DU COMPORTEMENT EXTRINSEQUE ET INTRINSEQUE DU COMPOSANT. LES ELEMENTS EXTRINSEQUES REPRESENTES PAR LES CAPACITES ELECTROSTATIQUES ONT ETE EVALUES EN UTILISANT UNE MODELISATION A ELEMENTS FINIS PERMETTANT LA PRISE EN COMPTE DE LA GEOMETRIE REELLE DU COMPOSANT EN DEUX DIMENSIONS. LES RESULTATS CONFIRME L'INTERET D'UTILISER DES STRUCTURES AVEC DOUBLE ZONE CREUSEE A LA SURFACE POUR AMELIORER LES PERFORMANCES MICROONDES DES TRANSISTORS A GRILLE ULTRACOURTES. UNE ANALYSE DETAILLEE DE LA COMMANDE DES CHARGES PAR LA GRILLE A L'EQUILIBRE A ETE REALISEE POUR LES DEUX STRUCTURES STANDARD ET PSEUDOMORPHIQUE A L'AIDE D'UN MODELE BASE SUR LA RESOLUTION AUTOCOHERENTE DES EQUATIONS DE SCHRODINGER ET DE POISSON. NOUS AVONS MIS EN EVIDENCE L'EFFICACITE DU DOPAGE PLANAIRE A MIEUX CONFIRMER LES ELECTRONS DANS LE PUITS QUANTIQUE ET A AMELIORER LE CONTROLE DES CHARGES PAR LA GRILLE. LA MODELISATION DU COMPORTEMENT INTRINSEQUE DU TRANSISTOR EST BASEE SUR L'APPROCHE QUASI-BIDIMENSIONNELLE. LES COMPARAISONS AVEC LES SIMULATIONS DE MONTE CARLO ONT MONTRE LA POSSIBILITE D'EVALUER CERTAINES GRANDEURS PHYSIQUES DANS LES HEMTS A GRILLE ULTRACOURTE JUSQU'A 0,1M AVEC CETTE APPROCHE Q-2D. CERTAINS EFFETS DE CANAL COURT ONT ETE ILLUSTRES EN ANALYSANT L'EVOLUTION DE LA DENSITE SURFACIQUE ET DE LA VITESSE MOYENNE DES ELECTRONS AINSI QUE LES CARACTERISTIQUES I-V. LES PRINCIPAUX ELEMENTS DU SCHEMA ELECTRIQUE EQUIVALENT PETIT SIGNAL SONT ENSUITE DETERMINES PAR L'APPROCHE QUASI-STATIQUE. LES RESULTATS OBTENUS EN FONCTION DE LA LONGUEUR DE GRILLE ET DES POLARISATIONS SONT EN BON ACCORD AVEC LES MESURES

Transistor à effet de champ à hétérojonction et à gaz d'électron à l'interface GaAs/GaAlAs

Transistor à effet de champ à hétérojonction et à gaz d'électron à l'interface GaAs/GaAlAs PDF Author: Djamel Kendil
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Languages : fr
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CE MEMOIRE CONCERNE L'ETUDE ET LA REALISATION DES TRANSISTORS A EFFET DE CHAMP A HETEROJONCTION ET A GAZ D'ELECTRON A L'INTERFACE GAAS-GAALAS. LES TRANSISTORS A EFFET DE CHAMP SONT ASSOCIES AUX PHOTODETECTEURS. APRES UN BREF APPEL SUR LES DIFFERENTES STRUCTURES REALISEES SUR CE MATERIAU, NOUS NOUS SOMMES INTERESSES A UN NOUVEAU DISPOSITIF FORME D'UNE BARRIERE DE POTENTIEL. CE DISPOSITIF CONSTITUE PAR DEUX COUCHES GAAS ET GAALAS INTRINSEQUES S'ASSOCIE CONVENABLEMENT A UN PHOTOCONDUCTEUR. DANS LE DOMAINE DE LA DETECTION DEUX INTEGRATIONS MONOLITHIQUES ONT ETE REALISEES. LA PREMIERE ASSOCIE UNE PHOTODIODE GAAS A UN TRANSISTOR A EFFET DE CHAMP GAAS/GAALAS, LA DEUXIEME COMPORTE UN PHOTOCONDUCTEUR INTERDIGITE CDTE ET UN TRANSISTOR A EFFET DE CHAMP GAAS/GAALAS. LES DEUX DISPOSITIFS SONT REALISES SUR UN MEME SUBSTRAT GAAS SEMI-ISOLANT. LA FABRICATION DU TEC A HETEROJONCTION EST ORGANISEE A PARTIR DE LA TECHNIQUE DE L'EPITAXIE EN PHASE LIQUIDE. LA TECHNOLOGIE DE FABRICATION EST DETAILLEE ET LES CARACTERISTIQUES COURANT-TENSION DES DISPOSITIFS IDENTIFIEES. UN GAIN EN COURANT DE 15 ET DES COURANTS INVERSES DE L'ORDRE DE 1 NA POUR LE DISPOSITIF PN-TEC SONT OBTENUS. UN TRANSISTOR A EFFET DE CHAMP A HETEROJONCTION A REGIONS GAAS ET GAALAS NON DOPEES EST REALISE. LA FORMATION D'UN GAZ BIDIMENSIONNEL D'ELECTRONS A L'INTERFACE DES DEUX COUCHES GAAS ET GAALAS INTRINSEQUE EST OBTENUE. LE DISPOSITIF A MONTRE UNE TRANSCONDUCTANCE DE 25 MS/MM