ETUDE THERMODYNAMIQUE ET EXPERIMENTALE DU DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR DU DISILICIURE DE TITANE TISI PDF Download
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Author: Jean-François Million-Brodaz
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Category :
Languages : fr
Pages : 157
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Book Description
L'ETUDE THERMODYNAMIQUE DU SYSTEME TI-SI-H-CL-AR NOUS A PERMIS DE DETERMINER LES CONDITIONS THEORIQUES DE DEPOT DE LA PHASE TISI::(2) PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR (C.V.P.) EN FONCTION DES PARAMETRES EXPERIMENTAUX : TEMPERATURE DE DEPOT, PRESSION TOTALE ET PRESSIONS PARTIELLES DES DIFFERENTES ESPECES GAZEUSES (SIH::(4), TICL::(4), H::(2), AR). A L'AIDE D'UN REACTEUR C.V.D. A MURS FROIDS, FONCTIONNANT SOUS PRESSION ATMOSPHERIQUE, NOUS OBTENONS DES FILMS MINCES DE TISI::(2), CONFIRMANT AINSI L'APPROCHE THERMODYNAMIQUE. EN VUE D'UNE PROCEDURE DE METALLISATION AUTOALIGNEE, NOUS AVONS ABORDE LE CONTROLE DU CARACTERE SELECTIF DU DEPOT. NOUS AVONS AINSI DEFINI DES CONDITIONS EXPERIMENTALES DE DEPOT SELECTIF, QUI PERMETTENT A PARTIR D'UN SUPPORT DE SI PARTIELLEMENT RECOUVERT DE SIO::(2), DE REALISER LE DEPOT DE TISI::(2) UNIQUEMENT DANS LES MOTIFS DE SI NON RECOUVERTS
Author: Jean-François Million-Brodaz
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Languages : fr
Pages : 157
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L'ETUDE THERMODYNAMIQUE DU SYSTEME TI-SI-H-CL-AR NOUS A PERMIS DE DETERMINER LES CONDITIONS THEORIQUES DE DEPOT DE LA PHASE TISI::(2) PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR (C.V.P.) EN FONCTION DES PARAMETRES EXPERIMENTAUX : TEMPERATURE DE DEPOT, PRESSION TOTALE ET PRESSIONS PARTIELLES DES DIFFERENTES ESPECES GAZEUSES (SIH::(4), TICL::(4), H::(2), AR). A L'AIDE D'UN REACTEUR C.V.D. A MURS FROIDS, FONCTIONNANT SOUS PRESSION ATMOSPHERIQUE, NOUS OBTENONS DES FILMS MINCES DE TISI::(2), CONFIRMANT AINSI L'APPROCHE THERMODYNAMIQUE. EN VUE D'UNE PROCEDURE DE METALLISATION AUTOALIGNEE, NOUS AVONS ABORDE LE CONTROLE DU CARACTERE SELECTIF DU DEPOT. NOUS AVONS AINSI DEFINI DES CONDITIONS EXPERIMENTALES DE DEPOT SELECTIF, QUI PERMETTENT A PARTIR D'UN SUPPORT DE SI PARTIELLEMENT RECOUVERT DE SIO::(2), DE REALISER LE DEPOT DE TISI::(2) UNIQUEMENT DANS LES MOTIFS DE SI NON RECOUVERTS
Author: Jean-Louis Peytavy
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Languages : fr
Pages : 106
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Pages : 106
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Author: Roland Morancho
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Languages : fr
Pages : 322
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Author: Hélène de Baynast
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Languages : fr
Pages : 386
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Cette étude porte sur l'élaboration et la caractérisation des films de nitrure de titane déposés sur silicium par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à partir des précurseurs: tétrachlorure de titane (TiC14), ammoniac (NH3) et hydrogène (H2). Les films sont réalisés dans un réacteur basse pression à chauffage rapide (RTLPCVD). Deux procédés de dépôt ont été proposés: un procédé monocycle et un procédé multicyle, ainsi que deux groupes de paramètres: le groupe 1 avec une haute température de dépôt (800ʿC) et une phase gazeuse riche en ammoniac et le groupe 2 avec une faible température de dépôt (500ʿC) et une phase gazeuse pauvre en ammoniac. Le principe de dépôt CVD repose sur des phénomènes d'adsorption, de diffusion et de germination. L'étude des coefficients de sursaturation et des énergies libres de surface a permis de calculer les rayons des germes critiques. Des hypothèses sur les modes de croissance ont été émises: la germination des couches élaborées avec les paramètres du groupe 1 se ferait selon le mode de croissance 2D-3D alors que la germination des couches élaborées avec les paramétres du groupe 2 se ferait selon le mode de croissance 3D. Les dépôts ont été caractérisés par diffraction X, RBS, XPS, mesure de résistivité, spectrocolorimétrie, rugosité de surface et comportement tribologique. Les dépôts obtenus sont stoechiométriques, cristallisés et texturés avec une orientation cristallographique 111 pour les dépôts du groupe 1 et 200 pour les dépôts du groupe 2. L'analyse des films par diffraction X a montré que le paramètre de maille des couches variait par rapport au paramètre théorique selon les groupes de paramètres et le procèdé utilisé. Les analyses chimiques ont révélé la présence d'oxygène à l'intérieur des couches probablement aux joints de grains et aux interfaces. Un rapprochement entre couleur des couches, paramètres de dépôt, procédé d'élaboration, défauts cristallographiques et rugosité de surface a été proposé.
Author: Roland Morancho
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Languages : fr
Pages : 0
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Author: Christine Danjoy
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Languages : fr
Pages : 217
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CETTE THESE REND COMPTE D'UNE ETUDE DE FAISABILITE D'UNE CERAMIQUE QUATERNAIRE CARBONITRURE DE TITANE ET DE VANADIUM (V.TI.C.N.), PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR A PARTIR DE PRECURSEURS ORGANOMETALLIQUES (O.M.C.V.D.). LA PREMIERE APPROCHE DE CE PROBLEME A CONSISTE EN LA FORMATION DE CETTE CERAMIQUE A PARTIR DE LA CO-DECOMPOSITION DE DEUX COMPOSES ORGANOMETALLIQUES, L'UN PRECURSEUR DE CARBONITRURE TITANE, CPTICL#2N(SIME#3)#2 (CP = C#5H#5, ME = CH#3) ; L'AUTRE PRECURSEUR DE CARBURE DE VANADIUM, CP#2VME#2 (CP = C#5H#5, ME = CH#3). LA SECONDE APPROCHE A ETE BASEE SUR LA SYNTHESE D'UN PRECURSEUR UNIQUE HETEROBIMETALLIQUE DU TITANE ET DU VANADIUM. UN COMPLEXE BIMETALLIQUE A ETE SYNTHETISE ET CARACTERISE CP#2TI(C=CC#6H#5)(C=CC#6H#5)VCP#2. CE TRAVAIL A IMPLIQUE UNE PART IMPORTANTE DE SYNTHESE CHIMIQUE DE COMPOSES ORGANOMETALLIQUES ET LEUR CARACTERISATION, NOTAMMENT PAR ANALYSE THERMOGRAVIMETRIQUE ET DIFFERENTIELLE COUPLEE A LA SPECTROMETRIE DE MASSE DES EFFLUENTS GAZEUX DE DECOMPOSITION. LES RESULTATS OBTENUS ONT PERMIS DE SELECTIONNER, PARMI LES COMPOSES SYNTHETISES, CEUX QUI OFFRENT LES CARACTERISTIQUES REPONDANT AU MIEUX AUX CRITERES CVD ET A CEUX SPECIFIES DANS LE CONTRAT OPTIMISATION DE REVETEMENTS DURS ET ADHERENTS PAR DEPOTS CHIMIQUES QUI A FINANCE CE TRAVAIL. DES REVETEMENTS SUR ACIER ONT ENSUITE ETE ELABORES PAR C.V.D. A PARTIR DE CP#2VME#2 ET DE CPTICL#2N(SIME#3)#2. LES FILMS ONT ETE CARACTERISES PAR LES TECHNIQUES HABITUELLES D'ANALYSE DE SURFACES X.P.S., E.D.S., DIFFRACTION DES RAYONS X ET MICROSCOPIE ELECTRONIQUE.
Author: Roland Morancho (auteur d'une thèse de sciences.)
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Languages : fr
Pages : 322
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