Author: Nicolas Durand
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 76
Book Description
NOUS PRESENTONS UNE ETUDE DES CONTRAINTES RESIDUELLES DANS DES FILMS MINCES DE 100 NM DE TUNGSTENE PULVERISE. QUATRE DEPOTS REALISES DANS LES MEMES CONDITIONS OPERATOIRES, NE DIFFERENT QUE TRES LEGEREMENT PAR LEUR MICROSTRUCTURE. ILS SONT CARACTERISES PAR DES CONTRAINTES COMPRESSION DE GRANDE AMPLITUDE (-4.5 GPA), UNE MICROSTRUCTURE NANOCRISTALLINE ET UNE STRUCTURE INTRA-GRANULAIRE TRES ELOIGNEE DU TUNGSTENE MASSIF. DEUX DEPOTS ASSISTES A L'AR 120 KEV PENDANT LE DEPOT POSSEDENT DES CONTRAINTES PLUS FAIBLES (-1.7 GPA) ET UNE MICROSTRUCTURE PLUS PROCHE DE CELLE DU MASSIF. AUCUNE INFLUENCE DE LA NATURE DU SUBSTRAT SUR LA MICROSTRUCTURE ET SUR LES CONTRAINTES INTRINSEQUES DES FILMS N'A ETE OBSERVEE. L'IRRADIATION IONIQUE DES FILMS A MIS EN EVIDENCE UNE RELAXATION RAPIDE ET TOTALE DES CONTRAINTES CORRELEE A UNE FORTE DECROISSANCE DU PARAMETRE CRISTALLIN LIBRE DES CONTRAINTES ET DES MICRODEFORMATIONS. DANS LE MEME TEMPS, UNE CROISSANCE DES GRAINS A ETE OBSERVEE. L'INFLUENCE DE LA MASSE ET DE L'ENERGIE DES IONS D'IRRADIATION EST RELATIVEMENT FAIBLE: PLUS LA MASSE DE L'ION EST ELEVEE, ET PLUS SON ENERGIE EST GRANDE, PLUS LA RELAXATION (ET L'ENSEMBLE DES EVOLUTIONS) EST DE GRANDE AMPLITUDE
Contraintes résiduelles et microstructure dans des films minces de tungstène
Author: Nicolas Durand
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 76
Book Description
NOUS PRESENTONS UNE ETUDE DES CONTRAINTES RESIDUELLES DANS DES FILMS MINCES DE 100 NM DE TUNGSTENE PULVERISE. QUATRE DEPOTS REALISES DANS LES MEMES CONDITIONS OPERATOIRES, NE DIFFERENT QUE TRES LEGEREMENT PAR LEUR MICROSTRUCTURE. ILS SONT CARACTERISES PAR DES CONTRAINTES COMPRESSION DE GRANDE AMPLITUDE (-4.5 GPA), UNE MICROSTRUCTURE NANOCRISTALLINE ET UNE STRUCTURE INTRA-GRANULAIRE TRES ELOIGNEE DU TUNGSTENE MASSIF. DEUX DEPOTS ASSISTES A L'AR 120 KEV PENDANT LE DEPOT POSSEDENT DES CONTRAINTES PLUS FAIBLES (-1.7 GPA) ET UNE MICROSTRUCTURE PLUS PROCHE DE CELLE DU MASSIF. AUCUNE INFLUENCE DE LA NATURE DU SUBSTRAT SUR LA MICROSTRUCTURE ET SUR LES CONTRAINTES INTRINSEQUES DES FILMS N'A ETE OBSERVEE. L'IRRADIATION IONIQUE DES FILMS A MIS EN EVIDENCE UNE RELAXATION RAPIDE ET TOTALE DES CONTRAINTES CORRELEE A UNE FORTE DECROISSANCE DU PARAMETRE CRISTALLIN LIBRE DES CONTRAINTES ET DES MICRODEFORMATIONS. DANS LE MEME TEMPS, UNE CROISSANCE DES GRAINS A ETE OBSERVEE. L'INFLUENCE DE LA MASSE ET DE L'ENERGIE DES IONS D'IRRADIATION EST RELATIVEMENT FAIBLE: PLUS LA MASSE DE L'ION EST ELEVEE, ET PLUS SON ENERGIE EST GRANDE, PLUS LA RELAXATION (ET L'ENSEMBLE DES EVOLUTIONS) EST DE GRANDE AMPLITUDE
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 76
Book Description
NOUS PRESENTONS UNE ETUDE DES CONTRAINTES RESIDUELLES DANS DES FILMS MINCES DE 100 NM DE TUNGSTENE PULVERISE. QUATRE DEPOTS REALISES DANS LES MEMES CONDITIONS OPERATOIRES, NE DIFFERENT QUE TRES LEGEREMENT PAR LEUR MICROSTRUCTURE. ILS SONT CARACTERISES PAR DES CONTRAINTES COMPRESSION DE GRANDE AMPLITUDE (-4.5 GPA), UNE MICROSTRUCTURE NANOCRISTALLINE ET UNE STRUCTURE INTRA-GRANULAIRE TRES ELOIGNEE DU TUNGSTENE MASSIF. DEUX DEPOTS ASSISTES A L'AR 120 KEV PENDANT LE DEPOT POSSEDENT DES CONTRAINTES PLUS FAIBLES (-1.7 GPA) ET UNE MICROSTRUCTURE PLUS PROCHE DE CELLE DU MASSIF. AUCUNE INFLUENCE DE LA NATURE DU SUBSTRAT SUR LA MICROSTRUCTURE ET SUR LES CONTRAINTES INTRINSEQUES DES FILMS N'A ETE OBSERVEE. L'IRRADIATION IONIQUE DES FILMS A MIS EN EVIDENCE UNE RELAXATION RAPIDE ET TOTALE DES CONTRAINTES CORRELEE A UNE FORTE DECROISSANCE DU PARAMETRE CRISTALLIN LIBRE DES CONTRAINTES ET DES MICRODEFORMATIONS. DANS LE MEME TEMPS, UNE CROISSANCE DES GRAINS A ETE OBSERVEE. L'INFLUENCE DE LA MASSE ET DE L'ENERGIE DES IONS D'IRRADIATION EST RELATIVEMENT FAIBLE: PLUS LA MASSE DE L'ION EST ELEVEE, ET PLUS SON ENERGIE EST GRANDE, PLUS LA RELAXATION (ET L'ENSEMBLE DES EVOLUTIONS) EST DE GRANDE AMPLITUDE
REALISATION ET ANALYSE DES PROPRIETES DES COUCHES MINCES DE NITRURE DE TUNGSTENE UTILISEES COMME BARRIERE ANTIDIFFUSION DANS LES CIRCUITS ELECTRONIQUES
Author: LOUBNA.. BOUKHRIS
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 200
Book Description
CE TRAVAIL A POUR OBJET LA REALISATION ET LA CARACTERISATION DES COUCHES MINCES DE NITRURE DE TUNGSTENE PAR PULVERISATION DIODE CONTINUE. AU COURS DE CETTE ETUDE NOUS AVONS EXAMINE L'INFLUENCE DES DIFFERENTS PARAMETRES DE LA DECHARGE SUR LES PROPRIETES DES COUCHES DEPOSEES. L'EMPLOI DE DIVERSES METHODES D'ANALYSES, XPS, RBS ET DIFFRACTION DE RAYONS X A PERMIS D'IDENTIFIER LES DIFFERENTS PRODUITS OBTENUS NOTAMMENT : - LEURS STRUCTURES (LES PHASES PRESENTES, ORIENTATIONS PREFERENTIELLES, TAILLE DES GRAINS ET CONTRAINTES) - LEURS COMPOSITIONS (NATURE ET LIAISON DES ESPECES CONSTITUANT LA COUCHE). L'ETUDE DE LA CONDUCTIVITE ELECTRIQUE DES COUCHES A ETE CORRELEE A LA COMPOSITION ET A LA MICROSTRUCTURE DES FILMS. LE COMPORTEMENT DES FILMS VIS A VIS DU RECUIT THERMIQUE ET LES PERFORMANCES DE CES FILMS EN TANT QUE BARRIERES ANTI-DIFFUSION ENTRE LE SUBSTRAT (SI) ET LE MATERIAU DE METALLISATION (AL OU CU) ONT ETE EGALEMENT ETUDIES. CE TRAVAIL A PERMIS DE DEFINIR LES CONDITIONS POUR OBTENIR LES FILMS LES PLUS PERFORMANTS ET PERMETTANT UN BON RECOUVREMENT DE MARCHE GRAVEES SUR LE SILICIUM D'UN FACTEUR D'ASPECT DE L'ORDRE DE 0,86.
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 200
Book Description
CE TRAVAIL A POUR OBJET LA REALISATION ET LA CARACTERISATION DES COUCHES MINCES DE NITRURE DE TUNGSTENE PAR PULVERISATION DIODE CONTINUE. AU COURS DE CETTE ETUDE NOUS AVONS EXAMINE L'INFLUENCE DES DIFFERENTS PARAMETRES DE LA DECHARGE SUR LES PROPRIETES DES COUCHES DEPOSEES. L'EMPLOI DE DIVERSES METHODES D'ANALYSES, XPS, RBS ET DIFFRACTION DE RAYONS X A PERMIS D'IDENTIFIER LES DIFFERENTS PRODUITS OBTENUS NOTAMMENT : - LEURS STRUCTURES (LES PHASES PRESENTES, ORIENTATIONS PREFERENTIELLES, TAILLE DES GRAINS ET CONTRAINTES) - LEURS COMPOSITIONS (NATURE ET LIAISON DES ESPECES CONSTITUANT LA COUCHE). L'ETUDE DE LA CONDUCTIVITE ELECTRIQUE DES COUCHES A ETE CORRELEE A LA COMPOSITION ET A LA MICROSTRUCTURE DES FILMS. LE COMPORTEMENT DES FILMS VIS A VIS DU RECUIT THERMIQUE ET LES PERFORMANCES DE CES FILMS EN TANT QUE BARRIERES ANTI-DIFFUSION ENTRE LE SUBSTRAT (SI) ET LE MATERIAU DE METALLISATION (AL OU CU) ONT ETE EGALEMENT ETUDIES. CE TRAVAIL A PERMIS DE DEFINIR LES CONDITIONS POUR OBTENIR LES FILMS LES PLUS PERFORMANTS ET PERMETTANT UN BON RECOUVREMENT DE MARCHE GRAVEES SUR LE SILICIUM D'UN FACTEUR D'ASPECT DE L'ORDRE DE 0,86.
JPIII
Author:
Publisher:
ISBN:
Category : Physics
Languages : fr
Pages : 636
Book Description
Publisher:
ISBN:
Category : Physics
Languages : fr
Pages : 636
Book Description
Physics Briefs
Author:
Publisher:
ISBN:
Category : Physics
Languages : en
Pages : 1256
Book Description
Publisher:
ISBN:
Category : Physics
Languages : en
Pages : 1256
Book Description
Journal de physique
Author:
Publisher:
ISBN:
Category : Physics
Languages : en
Pages : 1076
Book Description
Publisher:
ISBN:
Category : Physics
Languages : en
Pages : 1076
Book Description
Annales de chimie--science des matériaux
Author:
Publisher:
ISBN:
Category : Chemistry
Languages : en
Pages : 1028
Book Description
Publisher:
ISBN:
Category : Chemistry
Languages : en
Pages : 1028
Book Description
EPJ AP
Author:
Publisher:
ISBN:
Category : Physics
Languages : en
Pages : 758
Book Description
Publisher:
ISBN:
Category : Physics
Languages : en
Pages : 758
Book Description
Rayons X et Matière
Author: Norbert Broll
Publisher:
ISBN:
Category : Electronic books
Languages : fr
Pages : 592
Book Description
Publisher:
ISBN:
Category : Electronic books
Languages : fr
Pages : 592
Book Description
RX 2001
Author: Alain Cornet
Publisher:
ISBN:
Category : X-ray spectroscopy
Languages : fr
Pages : 564
Book Description
Publisher:
ISBN:
Category : X-ray spectroscopy
Languages : fr
Pages : 564
Book Description
Metals Abstracts
Author:
Publisher:
ISBN:
Category : Metallurgy
Languages : en
Pages : 740
Book Description
Publisher:
ISBN:
Category : Metallurgy
Languages : en
Pages : 740
Book Description