Etude expérimentale de l'accélération d'un plasma par un champ électromagnétique hyperfréquence et un champ magnétique statique inhomogène PDF Download
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Author: Paul Briand
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 54
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Author: Paul Briand
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Category :
Languages : fr
Pages : 54
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Author: Georges Mourier
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 152
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Author: Georges Mourier
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ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 152
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Author:
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ISBN:
Category : Ionization of gases
Languages : en
Pages : 866
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Author: Brana Perović
Publisher:
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Category : Collisions (Nuclear physics)
Languages : en
Pages : 864
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Author:
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ISBN:
Category : Ionization of gases
Languages : en
Pages : 890
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Author:
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ISBN:
Category : Ionization of gases
Languages : en
Pages : 868
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Author: Pierre Chabert
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 88
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REACTEUR EXPERIMENTAL DE GRAVURE PAR PLASMA, UTILISANT UNE DECHARGE MICROONDE EN CHAMP MAGNETIQUE A LA RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE. APPLICATION A LA GRAVURE D'ECHANTILLONS DE SILICIUM AVEC MASQUE DE SILICE DANS UN PLASMA DE SF::(6), EN MODIFIANT D'UN ESSAI A L'AUTRE LA POLARISATION CONTINUE DU PORTE-SUBSTRAT, REGLEE EN REFERENCE AU POTENTIEL PLASMA. CES ESSAIS METTENT EN EVIDENCE LE FAIT QU'UNE FAIBLE VARIATION DU POTENTIEL DE L'ECHANTILLON PEUT AVOIR UN EFFET IMPORTANT SUR LES CARACTERISTIQUES DE GRAVURE, EN PARTICULIER EN CE QUI CONCERNE LA SELECTIVITE DE L'ATTAQUE DU SILICIUM PAR RAPPORT AU SIO::(2)
Author: Tan Vinh Tran
Publisher:
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Category :
Languages : fr
Pages : 0
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L'extension d'échelle des procédés plasma fonctionnant à très faibles pressions est l'une des problématiques à résoudre pour leur essor au niveau industriel. Une solution consiste à distribuer uniformément des sources de plasma élémentaires dans lesquelles le plasma est produit par couplage à la résonance cyclotronique électronique (RCE). Ces sources élémentaires sont constituées d'un aimant permanent cylindrique (dipôle magnétique) disposé à l'extrémité d'une structure coaxiale d'amenée des micro-ondes. Bien que conceptuellement simple, l'optimisation de ces sources de plasma dipolaires est complexe. Elle requiert la connaissance, d'une part, des configurations de champ magnétique statique et électrique micro-onde, et, d'autre part, des mécanismes de production du plasma, dans les zones de champ magnétique fort (condition RCE), et des mécanismes de diffusion. Ainsi, une caractérisation expérimentale des domaines de fonctionnement et des paramètres plasma par sonde de Langmuir et par spectroscopie d'émission optique a été menée sur différentes configurations de sources dipolaires. Parallèlement, une première modélisation analytique a permis de calculer des champs magnétiques de configurations simples, le mouvement et la trajectoire des électrons dans ces champs magnétiques, l'accélération des électrons par couplage RCE. Ces résultats ont permis ensuite de valider la modélisation numérique des trajectoires électroniques par une méthode hybride Particle In Cell / Monte-Carlo. L'étude expérimentale a mis en évidence des domaines de fonctionnement pression/puissance très larges, entre 15 et 200 W de puissance micro-onde et depuis 0,5 jusqu'à 15 mTorr dans l'argon. L'étude des paramètres plasma a permis de localiser la zone de couplage RCE près du plan équatorial de l'aimant et de confirmer l'influence de la géométrie de l'aimant sur cette dernière. Ces caractérisations appliquées à un réacteur cylindrique utilisant 48 sources ont montré la possibilité d'atteindre au centre de l'enceinte des densités entre 1011 et 1012 cm-3 pour des pressions d'argon de quelques mTorr. La modélisation des trajectoires électroniques au voisinage des aimants indique un meilleur confinement radial pour des aimants présentant un rapport longueur/diamètre élevé. De plus, cette étude numérique confirme les résultats de l'étude expérimentale, à savoir une zone de couplage RCE près du plan équatorial et non au voisinage de l'extrémité du guide coaxial micro-onde. Enfin, ces résultats ont été appliqués avec succés à la pulvérisation assistée par plasma multi-dipolaire de cibles, permettant en particulier une usure uniforme de ces dernières.
Author: Marc Charpenel
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 30
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