Destruction de gaz moléculaires à effet de serre au moyen d'un plasma micro-onde fonctionnant à la pression atmosphérique [microforme] PDF Download
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![Destruction de gaz moléculaires à effet de serre au moyen d'un plasma micro-onde fonctionnant à la pression atmosphérique [microforme] PDF](https://books.google.com/books/content/images/frontcover/KYP0nQEACAAJ?fife=w150-h200)
Author: Patrice Jones
Publisher: Montréal : Service des archives, Université de Montréal, Section Microfilm
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 250
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Book Description
![Destruction de gaz moléculaires à effet de serre au moyen d'un plasma micro-onde fonctionnant à la pression atmosphérique [microforme] PDF](https://books.google.com/books/content/images/frontcover/KYP0nQEACAAJ?fife=w80-h100)
Author: Patrice Jones
Publisher: Montréal : Service des archives, Université de Montréal, Section Microfilm
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 250
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Author: Patrice Jones
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 250
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Author: Martin Nantel-Valiquette
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 190
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Author: Eduardo Castaños-Martínez
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages :
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Book Description
Les colonnes de plasma entretenues par un champ électrique (continu ou alternatif) à haute pression (p > 10 Torr) sont affectées par les phénomènes de contraction (réduction de la section radiale de la décharge) et de filamentation (fragmentation de la section de plasma en plusieurs filaments). La compréhension de ces phénomènes ainsi que le développement d'une méthode pouvant les supprimer demeurent une étape essentielle pour l'optimisation de certains procédés plasma. Dans cette optique, un premier objectif de notre travail était de déterminer les mécanismes à l'origine de la contraction et de la filamentation dans les décharges créées dans des gaz rares. Ainsi, nous avons montré que dans les plasmas micro-ondes contractés la cinétique de la décharge est contrôlée par les ions moléculaires et que la contraction est liée à l'influence du gradient de la température du gaz sur la concentration de ces ions. De plus, nous avons mis en évidence que la filamentation apparaît lorsque l'inhomogénéité radiale du champ électrique devient importante. Dans un second temps, nous avons développé une méthode de décontraction et de défilamentation de la décharge, qui consiste à ajouter à une décharge initiale de gaz rare des traces d'un autre gaz rare de plus faible potentiel d'ionisation. Dans le cas des plasmas décontractés, nous avons démontré que la cinétique de la décharge n'est plus contrôlée par les ions moléculaires, ce qui confirme bien l'importance de ces ions dans la description de la contraction. Pour terminer, nous avons étendu à la pression atmosphérique la technique d'absorption optique de mesure de densité des états métastables et résonnants à l'aide d'une lampe spectrale, ce qui n'avait été réalisé jusqu'ici que pour des pressions inférieures à 10 Torr. Ces états jouent un rôle essentiel dans l'ionisation des décharges contractées alors que dans les décharges décontractées leur désexcitation par les atomes du gaz adjuvant est l'étape fondamentale du processus de changement de cinétique menant à la décontraction.
Author: Grégory Arnoult
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 122
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Dans l'optique d'aller toujours vers le plus petit, un réacteur plasma micro-ondes en cavité résonnante fonctionnant à la pression atmosphérique a été développé à l'Institut Jean-Lamour (IJL, UMR 7198) dans l'équipe ESPRITS (Expériences et Simulations des Plasmas Réactifs - Interaction plasma-surface et Traitement des Surfaces).Ce réacteur plasma présente la particularité de pouvoir fournir une post-décharge de petite dimension (de l'ordre du millimètre). Un mélange Ar-O2 est utilisé comme gaz composant le plasma. L'aspect filamentaire de ce type de plasma est une des caractéristiques majeures du dispositif. De plus, la post-décharge se trouve notamment composée d'oxygène atomique, espèce active très utilisée par exemple en PECVD ou pour la fonctionnalisation de surface.Notre travail a consisté à mettre au point ce réacteur plasma et à caractériser la post-décharge résultante. Après avoir maîtrisé les principaux paramètres pouvant jouer notamment sur la forme de la post-décharge, nous nous sommes intéressés à son utilisation en tant que source plasma pour des applications de traitements de surfaces.Nous avons ainsi étudié des dépôts de films minces de SiOx à partir d'hexaméthyldisiloxane (HMDSO) en utilisant la post-décharge comme source d'oxygène atomique permettant la décomposition du précurseur organosilicié. L'HMDSO est utilisé ici car il est assez simple à manipuler et il a été souvent étudié, nous permettant d'obtenir sur lui de nombreuses informations. Différentes structures auto-organisées sont apparues au sein de ces dépôts et ont été étudiées afin de comprendre leur mécanisme de formation.
Author: Claire Tendero
Publisher:
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Category :
Languages : fr
Pages : 185
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Ce manuscrit est consacré à l’étude d’une torche plasma micro-onde fonctionnant à la pression atmosphérique pour la préparation de surfaces métalliques, plus particulièrement le dégraissage et l’oxydation de surface d’alliage aluminium Al2024 avant revêtement peinture d’une part et le décapage de TA6V avant soudage d’autre part. Des conditions optimales de fonctionnement sont dégagées grâce à une étude du comportement du plasma par spectroscopie d’émission optique et modélisation électromagnétique : le plasma généré par la torche est un gaz ionisant de température électronique Te = 7500 K et dont la densité d’espèces actives est favorisée par une puissance micro-onde l’ordre de 600 W, un débit de gaz plasmagène élevé et un positionnement proche de la base du jet. L’application de la torche aux cas particuliers du dégraissage et de l’oxydation de surface sont ensuite étudiés en terme d’énergie de surface et de profil de composition chimique en profondeur. Les résultats sont encourageants puisque le traitement plasma permet d’améliorer l’énergie de surface (elle passe de 32 mN/m à 72 mN/m) et de doubler l’épaisseur de la couche d’oxyde natif.
Author: Syed Salman Asad
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Languages : fr
Pages : 181
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Un nouveau procédé de dépôt CVD à l’air libre, utilisant une torche micro-onde à injection axiale, a été développé pour le dépôt de couches minces d’oxyde de silicium. Pour obtenir ces films en toute sécurité, il a été nécessaire de concevoir et d’installer un système d’injection des gaz puis d’incorporer la torche dans un réacteur métallique ouvert. L’introduction d’un porte-substrat mobile modifiait le couplage micro-onde / plasma. De ce fait, une approche par simulation a été conduite (logiciel CST microwave-studio) afin d’optimiser les paramètres de fonctionnement de la torche (longueur du guide d’onde = 202 mm, profondeur de la cavité = 13 mm). Ces résultats, confirmés expérimentalement, ont permis de rendre maximum et de stabiliser le transfert d’énergie pendant le traitement, dans un réacteur aux dimensions optimisées. Des couches minces d’oxyde de silicium ont été obtenues à partir de deux précurseurs organométalliques (TMS, HMDSO). Une étude paramétrique a montré que des films transparents pouvaient être déposés à une vitesse relativement élevée dans les conditions suivantes : puissance micro-onde de 500 W, débit de précurseur de 3 10-4 L.min-1 et une distance torche-substrat de 30 mm dans un débit total de gaz plasmagène (argon) de 15 L.min-1. Il a été observé une diminution de la vitesse de dépôt de 1500 nm.min-1 après 15 secondes à quasiment 0 après 5 minutes. Par ailleurs, les films évoluent d’une apparence transparente ( 1.5 minutes) à poudrée ( 1.5 minutes). L’augmentation de la température du substrat pendant le dépôt a été identifiée comme le paramètre responsable de cette évolution. Les films et le plasma ont été analysés par différentes techniques afin de proposer des mécanismes de décomposition des précurseurs.
Author: Yassine Kabouzi
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : en
Pages : 434
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Author: Katell Gadonna
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 0
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Author: Amaury Kilicaslan
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Languages : en
Pages :
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