Author: Christophe SerrePublisher:
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Languages : fr
Pages : 116
Book Description
CE TRAVAIL EST CONSACRE A L'ETUDE DE LA DISSOLUTION ELECTROCHIMIQUE DU SILICIUM MONOCRISTALLIN EN MILIEU ACIDE FLUORHYDRIQUE. DANS UNE PREMIERE PARTIE BIBLIOGRAPHIQUE, NOUS DECRIVONS L'INTERFACE SILICIUM/ACIDE FLUORHYDRIQUE ET LES DIFFERENTS REGIMES DE DISSOLUTION ANODIQUE: SUIVANT LES CONDITIONS D'ANODISATION, LA DISSOLUTION PEUT SE PRODUIRE DE MANIERE LOCALISEE (SILICIUM POREUX) OU HOMOGENE (ELECTROPOLISSAGE). NOUS RAPPELONS ENSUITE LES MECANISMES PROPOSES DANS LA LITTERATURE, QUI SONT EXTREMEMENT COMPLEXES ET RESTENT TRES MAL CONNUS. NOUS PRESENTONS EN DEUXIEME PARTIE UNE ETUDE DE L'INFLUENCE DE LA COMPOSITION DE L'ELECTROLYTE ET DE L'INFLUENCE DU REGIME HYDRODYNAMIQUE SUR LES CARACTERISTIQUES COURANT-TENSION. CETTE ETUDE, RENDUE POSSIBLE GRACE A UNE ELECTRODE TOURNANTE ET UNE METHODE DE MESURE DE PH FIABLE, A PERMIS DE MONTRER LE ROLE PREPONDERANT MAIS INDIRECT DE L'ESPECE NON DISSOCIEE HF, ET NOUS A AMENE A SUSPECTER LA FORMATION D'UNE COUCHE D'OXYDE A LA SURFACE DE L'ELECTRODE EN COURS D'ELECTROPOLISSAGE. DANS UNE TROISIEME PARTIE, NOUS AVONS MENE UNE ETUDE ORIGINALE ET DETAILLEE BASEE SUR UN PHENOMENE DE COURANT TRANSITOIRE QUI APPARAIT A LA FIN DE LA DISSOLUTION SOUS FAIBLE POLARISATION DES OXYDES EN MILIEU HF. LES RESULTATS OBTENUS, APPLIQUES A L'ETUDE DE LA COUCHE D'ELECTROPOLISSAGE, NOUS ONT ALORS PERMIS DE CONFIRMER QUE L'ON AVAIT TRES VRAISEMBLABLEMENT AFFAIRE A UN OXYDE, ET LA VITESSE DE DISSOLUTION DE CETTE COUCHE. NOUS AVONS ENFIN PROPOSE UN MECANISME DE DISSOLUTION METTANT EN JEU UNE COMPETITION ENTRE LA CROISSANCE ELECTROCHIMIQUE DE L'OXYDE ET SA DISSOLUTION CHIMIQUE PAR HF
