CONTRIBUTION A L'ETUDE DE L'INTERACTION ENTRE UN PLASMA MULTIPOLAIRE DE DIVERS GAZ ET UN SUBSTRAT SEMICONDUCTEUR, ET A LA CARACTERISATION DES FILMS MINCES OBTENUS PDF Download
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Author: Paul Friedel
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Languages : fr
Pages : 219
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ETUDE DES ETAPES INITIALES DE LA CROISSANCE D'ISOLANTS PAR ANODISATION, ETAPES DETERMINANTES POUR LA FORMATION DES ETATS DE SURFACE. LA COMPOSITION CHIMIQUE EST DETERMINEE PAR EFFET AUGER, LA COMPOSITION DU PLASMA ET DES GAZ RESIDUELS EST MESUREE PAR SPECTROMETRIE DE MASSE, L'ELLIPSOMETRIE A LONGUEUR D'ONDE FIXE DONNE UNE PREMIERE INFORMATION CINETIQUE SUR L'INTERACTION ENTRE UN PLASMA ET LA SURFACE. INFORMATIONS SUR LA REPARTITION D'ETATS DE SURFACE A L'AIDE DU PHOTOPOTENTIEL DE SURFACE. INFORMATION CRISTALLOGRAPHIQUE PAR DIFFRACTION D'ELECTRONS DE HAUTE ENERGIE EN REFLEXION
Author: Paul Friedel
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Languages : fr
Pages : 219
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ETUDE DES ETAPES INITIALES DE LA CROISSANCE D'ISOLANTS PAR ANODISATION, ETAPES DETERMINANTES POUR LA FORMATION DES ETATS DE SURFACE. LA COMPOSITION CHIMIQUE EST DETERMINEE PAR EFFET AUGER, LA COMPOSITION DU PLASMA ET DES GAZ RESIDUELS EST MESUREE PAR SPECTROMETRIE DE MASSE, L'ELLIPSOMETRIE A LONGUEUR D'ONDE FIXE DONNE UNE PREMIERE INFORMATION CINETIQUE SUR L'INTERACTION ENTRE UN PLASMA ET LA SURFACE. INFORMATIONS SUR LA REPARTITION D'ETATS DE SURFACE A L'AIDE DU PHOTOPOTENTIEL DE SURFACE. INFORMATION CRISTALLOGRAPHIQUE PAR DIFFRACTION D'ELECTRONS DE HAUTE ENERGIE EN REFLEXION
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Category : Electronics
Languages : fr
Pages : 390
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Author: Mohamed Latreche
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Category :
Languages : fr
Pages : 172
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LE TRAVAIL PRESENTE S'INTERESSE A LA CARACTERISATION DE PLASMAS DE DEPOT ET L'ANALYSE DE COUCHES MINCES ORGANOSILICIES OBTENUES DANS UN PLASMA MULTIPOLAIRE A RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE REPARTIE (RCER). LA PREMIERE PARTIE DE CE TRAVAIL PORTE SUR LA DETERMINATION DES PARAMETRES ELECTRIQUES DU PLASMA PAR SONDE DE LANGMUIR ET L'ETUDE DE LEUR COMPORTEMENT EN FONCTION DES PARAMETRES DE LA DECHARGE. NOUS NOUS SOMMES INTERESSES PARTICULIEREMENT AUX PLASMAS DE TETRAETHOXYSILANE (TEOS) ET DE L'HEXAMETHYLDISILOXANE (HMDS). L'ETUDE DE L'EVOLUTION DE LA DENSITE ELECTRONIQUE EN FONCTION DE LA PUISSANCE MONTRE L'EXISTENCE DE DEUX REGIMES DE FONCTIONNEMENT POUR TOUS LES PLASMAS ETUDIES. LA TEMPERATURE ELECTRONIQUE EST PEU INFLUENCEE PAR LES CONDITIONS PLASMA DANS LE CAS DU TETRAETHOXYSILANE ET DE L'HEXAMETHYLDISILOXANE. LA SECONDE PARTIE EST CONSACREE A L'ANALYSE DE LA PHASE GAZ DU PLASMA. LA SPECTROMETRIE DE MASSE MONTRE QUE LES MONOMERES SONT FORTEMENT FRAGMENTES (PLUS DE 95% A PARTIR DE 100 WATT). LA SPECTROSCOPIE D'EMISSION OPTIQUE MET EN EVIDENCE L'ABONDANCE DU GROUPEMENT CO#+ DANS LE PLASMA TETRAETHOXYSILANE, ALORS QU'IL EST QUASIMENT INEXISTANT DANS LE PLASMA D'HEXAMETHYLDISILOXANE. LE PLASMA DU MELANGE HEXAMETHYLDISILOXANE-OXYGENE EST SEMBLABLE A CELUI DU TETRAETHOXYSILANE PUR. LES STRUCTURES DES DEPOTS OBTENUS SONT ASSEZ PROCHES. L'ETUDE DE L'EVOLUTION DE LA VITESSE DE CROISSANCE DES FILMS, DE LEUR STRUCTURE ET COMPOSITION EST TRAITEE DANS LA TROISIEME PARTIE. LES ANALYSES DES COUCHES DEPOSEES ONT MONTRE QUE L'INTRODUCTION DE L'OXYGENE DANS LE PLASMA ET LA POLARISATION DU SUBSTRAT CONTRIBUENT A L'ELIMINATION DES PARTIES ORGANIQUES INCORPOREES DANS LES DEPOTS
Author: Fabrice Valsaque
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Languages : fr
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L'interaction entre un plasma et une paroi est étudiée au moyen d'une modélisation cinétique de type Vlasov-Poisson. Celle-ci est particulièrement bien adaptée pour les plasmas à basse pression, tels que ceux employés en fusion ou en gravure. A l'aide de calculs analytiques ou numériques, nous modélisons les perturbations que provoque une surface solide sur un plasma en vue d'améliorer la mesure de la température des ions. En premier lieu, nous montrons comment corriger de façon significative les mesures par sondes en tenant compte de leur propre interaction avec le plasma. En second lieu, nous mettons en évidence une large surestimation des mesures par fluorescence induite par laser lorsque la résolution spatiale n'est pas suffisante (ce qui est souvent le cas à proximité d'une paroi). Nous terminons cette étude en proposant une méthode de déconvolution des mesures spectroscopiques afin de remédier à ce problème tout en conservant le même appareillage.
Author: YVES.. DEMAY
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Languages : fr
Pages : 161
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OBSERVATION DE LA CREATION DE L'INTERFACE IN SITU AU MOYEN DES TECHNIQUES D'ELLIPSOMETRIE SPECTROSCOPIQUE, DE SPECTROMETRIE AUGER ET DE DIFFRACTION D'ELECTRONS EN INCIDENCE RASANTE. MISE EN EVIDENCE DE LA FORMATION D'UNE COUCHE DE TRANSITION ENTRE LE SILICIUM CRISTALLIN ET LE NITRURE DE SILICIUM. POSSIBILITE D'OBTENIR PAR PLASMA UNE SURFACE PROPRE DE GAAS (100). AMELIORATION DES PROPRIETES ELECTRIQUES DE L'INTERFACE GAAS DIELECTRIQUE PAR NETTOYAGE COMPLET ET NITRURATION
Author: Marcel Henri Michel Carrere
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Languages : fr
Pages : 161
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LES DECHARGES A CONFINEMENT MAGNETIQUE MULTIPOLAIRE EXCITEES PAR DES FILAMENTS EMISSIFS SONT LARGEMENT UTILISEES POUR DES ETUDES FONDAMENTALES DANS LES PLASMAS. LE BUT DE CETTE THESE EST DE COMPRENDRE LEUR FONCTIONNEMENT ET NOTAMMENT COMMENT L'ENERGIE EST DISTRIBUEE ENTRE LES ELECTRONS EN L'ABSENCE DE COLLISIONS. APRES LA DESCRIPTION D'UN MODELE SIMPLE DE BILAN ENTRE CREATION ET PERTES DANS LE PLASMA ET LE RAPPEL DE QUELQUES INSTABILITES, NOUS PRESENTONS UNE ANALYSE DETAILLEE DE L'INTERACTION FILAMENT-PLASMA ET UNE ETUDE DE LA CORRELATION TURBULENCE-TEMPERATURE. L'EQUILIBRE THERMIQUE DU FILAMENT EST FORTEMENT COUPLE A L'EMISSION DES ELECTRONS: IL EXISTE UN PROFIL DE TEMPERATURE LE LONG DU FILAMENT ET L'EMISSION D'ELECTRONS DU FILAMENT VERS LE PLASMA PRESENTE DEUX ETATS STABLES. LA TRANSITION DU COURANT DE DECHARGE ENTRE CES DEUX ETATS PRESENTE PARFOIS UN SAUT ET UN HYSTERESIS LORSQU'ON VARIE CONTINUMENT UN PARAMETRE DE CONTROLE DE LA DECHARGE. NOUS ATTRIBUONS CE SAUT A UN ECRASEMENT DE LA GAINE EMISSIVE. EN L'ABSENCE DE CHAMP MAGNETIQUE, LA LARGEUR DE L'HYSTERESIS EST PRINCIPALEMENT REGIE PAR LES PROFILS DE TEMPERATURE ET DE POTENTIEL LE LONG DU FILAMENT. LE CHAMP MAGNETIQUE LOCAL A LA GAINE INTRODUIT UNE BRISURE DE SYMETRIE SUPPLEMENTAIRE DANS LA DYNAMIQUE DES PORTEURS DE CHARGE. EN L'ABSENCE DE CHAMP MAGNETIQUE MULTIPOLAIRE NOUS AVONS TROUVE UNE CORRELATION TURBULENCE-TEMPERATURE. AVEC LE CHAMP MAGNETIQUE MULTIPOLAIRE, POUR DES PRESSIONS SUPERIEURES A 10##4 MB, NOUS OBSERVONS LA PRESSION ELECTRONIQUE EST CONSTANTE. EN DESSOUS DE CETTE PRESSION, LE COMPORTEMENT DU PLASMA EST PLUS COMPLEXE. L'ENSEMBLE DE CES RESULTATS EXPERIMENTAUX OUVRE DES PERSPECTIVES POUR L'ETUDE THEORIQUE ET LA MODELISATION NUMERIQUE DE CES DECHARGES
Author: CHRISTIAN.. PEUGNET
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Languages : fr
Pages : 362
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L'INTERACTION FAISCEAU D'ELECTRONS RELATIVISTES-CIBLE MINCE EST ETUDIEE DANS LE BUT DE RECHERCHER LES CONDITIONS D'UN DEPOT D'ENERGIE ELEVE. UNE INTERACTION CLASSIQUE SE TRADUIT PAR UN DEPOT D'ENERGIE FAIBLE, CELUI-CI NE PEUT AUGMENTER QUE S'IL Y A ALLONGEMENT DE LA TRAJECTOIRE ELECTRONIQUE DANS LA CIBLE. LES CHAMPS ELECTRIQUES ET MAGNETIQUES PEUVENT ETRE UTILISES A CETTE FIN. L'EXPERIENCE MONTRE QUE L'INTERACTION EST MAXIMALE EN FIN D'IMPULSION OU L'ON CONSTATE UNE AUGMENTATION DU COURANT ET UNE CHUTE DE LA TENSION. LE COURANT ATTEINT 200 KA ET LA TENSION ANODE CATHODE CHUTE DE 800 KV A UNE VALEUR PRATIQUEMENT NULLE. DURANT UNE GRANDE PARTIE DE L'IMPULSION LE COURANT EST TRANSMIS DE FACON CLASSIQUE. LE MAXIMUM D'ENERGIE ABSORBEE PAR UNE CIBLE D'OR DE 4 MU M SUR UN DIAMETRE DE 1,5 MM EST DE 90 JOULES
Author: Régis Delsol
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Languages : fr
Pages : 184
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LE SUJET PORTE SUR L'ETUDE DES VITESSES DE CROISSANCE ET SUR LA CARACTERISATION DE COUCHES MINCES ORGANOSILICIEES, OBTENUES DANS UN PLASMA MULTIPOLAIRE A RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE REPARTIE. LE MILIEU GAZEUX EST COMPOSE DE TETRAETHYLORTHOSILICATE ET D'OXYGENE MOLECULAIRE. DANS LA PREMIERE PARTIE DU SUJET, LES COEFFICIENTS DE DISSOCIATION APPARENTS DU TETRAETHYLORTHOSILICATE ET DE L'OXYGENE MOLECULAIRE SONT MESURES PAR SPECTROMETRIE DE MASSE. DES LES FAIBLES PUISSANCES (100 WATT), LE TETRAETHYLORTHOSILICATE EST TOTALEMENT DISSOCIE. EN REVANCHE, 50% DE L'OXYGENE ATOMIQUE RESTE DETECTABLE POUR UNE PUISSANCE DE 800 WATT. LES PRESSIONS DE TRAVAIL SONT COMPRISES ENTRE 0,05 PA ET 0,2 PA. AU-DESSOUS DE CES VALEURS LA DECHARGE NE PEUT SE DECLENCHER, AU-DESSUS LES COLLISIONS EMPECHENT L'EXTENSION DU PLASMA DANS LE REACTEUR. A PARTIR DE CES OBSERVATIONS ET DE LA MESURE DES VITESSES DE CROISSANCE POUR DIVERSES CONDITIONS D'ELABORATION (PRESSION, PUISSANCE, COMPOSITION DU MELANGE GAZEUX), UN MODELE DE CROISSANCE EST PROPOSE. IL SUPPOSE UNE RECOMBINAISON DES RADICAUX ORGANOSILICIES DE LA PHASE GAZEUSE SUR LES SURFACES, ET UN PHENOMENE DE GRAVURE DES FILMS PAR L'OXYGENE ATOMIQUE DE LA DECHARGE. DANS LA DEUXIEME PARTIE DU SUJET, UNE POLARISATION RADIO-FREQUENCE EST IMPOSEE AUX SUBSTRATS TRAITES. LES COUCHES DEPOSEES SONT ANALYSEES PAR SPECTROSCOPIE INFRA-ROUGE EN TRANSMISSION ET CARACTERISEES PAR MESURES DIELECTRIQUES. L'EFFET DE SYNERGIE ENTRE LA GRAVURE CHIMIQUE PAR L'OXYGENE ATOMIQUE ET LE BOMBARDEMENT IONIQUE DU A LA POLARISATION DES SUBSTRATS, ELIMINE LA PARTIE ORGANIQUE DES FILMS. DES COUCHES DE TYPE SIOX SONT OBTENUES. LES PROPRIETES DIELECTRIQUES DE CES COUCHES DEPENDENT DES CONDITIONS D'ELABORATION ET DE LA POLARISATION DES SUBSTRATS. POUR UN PLASMA CONTENANT 75% D'OXYGENE MOLECULAIRE ET 25% DE TETRAETHYLORTHOSILICATE ET POUR UNE POLARISATION DE -20V, LES FILMS OBTENUS SONT PROCHES DE LA SILICE THERMIQUE (PERMITTIVITE RELATIVE DE 4 ET PERTES DIELECTRIQUES DE 4 10#-#3 A 1 KHZ)
Author: René Frank
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 72
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Author: Pierre Légaré
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Category :
Languages : fr
Pages : 112
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