Conception, étude et optimisation de nouvelles sources plasma à la résonance cyclotronique électronique PDF Download
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Author: Mathieu Diers
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ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 320
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Book Description
Le groupe HEF (Hydromécanique Et Frottements), premier équipementier et façonnier français en traitements de surface par plasmas hors microélectronique, utilise dans ses procédés industriels des sources plasma micro-onde multi-dipolaires fonctionnant sur le principe de la résonance cyclotronique électronique pour la réalisation de dépôts de type DLC par PACVD, et pour l'assistance ionique à la croissance de couches CrN par pulvérisation magnétron réactive. Suite à la présentation de l'utilisation de ces sources pour des dépôts de DLC et des ajustements nécessaires pour leur mise en œuvre industrielle, les travaux de cette thèse portent sur le développement de nouvelles sources plasma micro-onde en vue d'améliorer l'uniformité des traitements de surface dans le volume du réacteur ainsi que la productivité des réacteurs plasma pour le dépôt de ces couches. Les résultats obtenus sont intéressants puisque le développement d'une source étendue a permis d'augmenter la vitesse de dépôt des couches DLC sans dégradation des propriétés mécaniques et d'obtenir une uniformité similaire à celle obtenue avec les sources multi-dipolaires en utilisant deux fois moins d'applicateurs micro-onde. Les réflexions portant sur l'amorçage du plasma ont permis d'identifier les voies d'amélioration de cette source pour valider son utilisation en milieu industriel. L'utilisation de cette source étendue pour l'assistance ionique à la croissance de couches telles que le nitrure de chrome CrN par pulvérisation magnétron réactive a démontré un potentiel intéressant en termes de propriétés mécaniques obtenues et a permis d'identifier des axes de développement de cette configuration.
Author: Mathieu Diers
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Languages : fr
Pages : 320
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Book Description
Le groupe HEF (Hydromécanique Et Frottements), premier équipementier et façonnier français en traitements de surface par plasmas hors microélectronique, utilise dans ses procédés industriels des sources plasma micro-onde multi-dipolaires fonctionnant sur le principe de la résonance cyclotronique électronique pour la réalisation de dépôts de type DLC par PACVD, et pour l'assistance ionique à la croissance de couches CrN par pulvérisation magnétron réactive. Suite à la présentation de l'utilisation de ces sources pour des dépôts de DLC et des ajustements nécessaires pour leur mise en œuvre industrielle, les travaux de cette thèse portent sur le développement de nouvelles sources plasma micro-onde en vue d'améliorer l'uniformité des traitements de surface dans le volume du réacteur ainsi que la productivité des réacteurs plasma pour le dépôt de ces couches. Les résultats obtenus sont intéressants puisque le développement d'une source étendue a permis d'augmenter la vitesse de dépôt des couches DLC sans dégradation des propriétés mécaniques et d'obtenir une uniformité similaire à celle obtenue avec les sources multi-dipolaires en utilisant deux fois moins d'applicateurs micro-onde. Les réflexions portant sur l'amorçage du plasma ont permis d'identifier les voies d'amélioration de cette source pour valider son utilisation en milieu industriel. L'utilisation de cette source étendue pour l'assistance ionique à la croissance de couches telles que le nitrure de chrome CrN par pulvérisation magnétron réactive a démontré un potentiel intéressant en termes de propriétés mécaniques obtenues et a permis d'identifier des axes de développement de cette configuration.
Author: FAROUK.. BOUKARI
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 140
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LA MOTIVATION DE CETTE THESE EST L'ETUDE D'UN CANON A IONS MICRO-ONDE COAXIALE POUR PRODUIRE DES FAISCEAUX DE DENSITE ELEVEE ET DE FAIBLE SECTION AYANT TYPIQUEMENT QUELQUES CENTIMETRES DE DIAMETRE. NOUS NOUS SOMMES INTERESSES AU PRINCIPE D'EXCITATION D'UN PLASMA A PARTIR D'UNE MICRO-ONDE, TOUT PARTICULIEREMENT A L'OPTIMISATION DE LA STRUCTURE AFIN DE CREER UN PLASMA INTENSE ET SUFFISAMMENT HOMOGENE AU NIVEAU DE L'INTERFACE PLASMA-FAISCEAU. L'EXCITATION DU PLASMA EST REALISEE PAR UNE ANTENNE PLONGEE DANS UNE CHAMBRE CYLINDRIQUE DONT LES DIMENSIONS ONT ETE ETABLIES POUR UN BON COUPLAGE ENTRE LA MICRO-ONDE ET LE PLASMA. LA RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE CONDUIT A UN FONCTIONNEMENT A BASSE PRESSION ASSOCIE A UN TRES BON RENDEMENT. NOUS AVONS PROPOSE UN MODELE TRES SIMPLE DE L'EFFET RCE EN CONSIDERANT LA MICRO-ONDE D'UN POINT DE VUE PHOTONIQUE. MALGRE LES HYPOTHESES SIMPLIFICATRICES, CE MODELE CONDUIT A DES RESULTATS TRES PROCHES DE L'EXPERIENCE. LA CARACTERISATION ET L'OPTIMISATION DE LA SOURCE ONT ETE REALISEES EN FONCTION DES DEUX PARAMETRES PRINCIPAUX DE LA DECHARGE (PRESSION DES NEUTRES ET PUISSANCE MICRO-ONDE) POUR LES GAZ SUIVANTS: AR, O#2, N#2, H#2, SF#6, CF#4 ET CH#4. ON PEUT AINSI ENVISAGER L'INSTALLATION DE CE CANON DANS DE NOMBREUX PROCEDES (GRAVURE, DEPOT,). NOUS AVONS EFFECTUE UNE CARACTERISATION DE LA DECHARGE. LES CONDITIONS D'AMORCAGE ET D'ENTRETIEN DE LA DECHARGE ONT FAIT L'OBJET D'UNE MODELISATION THEORIQUE QUI NOUS A PERMIS D'EXPLIQUER ET D'INTERPRETER LES PHENOMENES EXPERIMENTAUX REGISSANT LES CONDITIONS DE FONCTIONNEMENT STABLES ET CONTINUES. DES VALEURS DE LA PUISSANCE MICRO-ONDE NECESSAIRES, EN FONCTION DE LA PRESSION DANS LA CHAMBRE D'IONISATION, SONT EVALUEES A PARTIR DE CE MODELE. POUR LE TRAITEMENT DE MATERIAUX, IL EST SOUVENT NECESSAIRE DE DISPOSER DE FAISCEAUX D'IONS A BASSE ENERGIE. NOUS AVONS PRESENTE UNE ANALYSE COMPLETE DE LA FORMATION D'UN FAISCEAU DENSE DONT L'ENERGIE IONIQUE EST DE QUELQUES DIZAINES D'ELECTRONVOLTS. POUR CE FAIRE, NOUS AVONS ETUDIE DES CONDITIONS D'EXTRACTION NON TRADITIONNELLES MAIS QUI DONNENT DE FORTES DENSITES A BASSE ENERGIE. LA COMPOSITION DU FAISCEAU POUR DIFFERENTS GAZ ET NOTAMMENT POUR LES GAZ REACTIFS EST EGALEMENT ANALYSEE. NOUS AVONS ETUDIE PAR AILLEURS UNE SOURCE D'ELECTRONS MICRO-ONDE POUR REALISER LA NEUTRALISATION EN CHARGE ET EN COURANT DU FAISCEAU, TECHNIQUE NECESSAIRE POUR L'IRRADIATION DES MATERIAUX ISOLANTS. L'ETUDE DOIT ETRE CONTINUEE POUR RESOUDRE LE PROBLEME DU PIEGEAGE DES ELECTRONS PAR LE CHAMP DE FUITE. LES PREMIERS RESULTATS DE LA CONDENSATION D'IONS EXTRAITS D'UN PLASMA DE CH#4 A BASSE ENERGIE SONT PROMETTEURS ET UNE ETUDE PLUS APPROFONDIE RESTE A FAIRE
Author: CORINE-ANDREE.. BERNARD
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Languages : fr
Pages : 152
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UNE NOUVELLE SOURCE D'IONS A RESONANCE CYCLOTRON ELECTRONIQUE EST DEVELOPPEE POUR DE L'IMPLANTATION IONIQUE. CETTE SOURCE COMPACTE, REALISEE ENTIEREMENT EN AIMANTS PERMANENTS EMPLOIE UN GENERATEUR MICRO ONDE D'UNE FREQUENCE DE 2,45#G#H#Z AFIN DE DIMINUER SON COUT. UN ACCES DIRECT AU PLASMA PERMET L'INJECTION D'ECHANTILLONS METALLIQUES DANS LE PLASMA QUI SONT EVAPORES SOIT DIRECTEMENT, SOIT PAR L'INTERMEDIAIRE D'UN MICRO FOUR, POUR CREER DES FAISCEAUX D'IONS METALLIQUES. DANS UN BUT DE COMPREHENSION ET D'AMELIORATION DES SOURCES, ON ETUDIE DES PLASMAS D'HELIUM PUR, D'ARGON, OU DE MELANGE HELIUM ARGON, POUR DEUX SOURCES D'IONS PRODUCTRICES DE MOYENS ETATS DE CHARGE ET D'IONS MULTICHARGES. DIVERS DIAGNOSTICS SONT UTILISES POUR CETTE ETUDE: L'INTERFEROMETRIE MICRO ONDE, LA SPECTROSCOPIE VISIBLE ET LA SPECTROMETRIE DE MASSE. CES DIAGNOSTICS CONJUGUES DE MANIERE SIMULTANEE PERMETTENT DE DETERMINER LA DENSITE MOYENNE D'ELECRONS LIBRES A L'INTERIEUR DU PLASMA, ET DE L'ENERGIE MOYENNE DES IONS, ET LES ESPECES IONIQUES EXTRAITES DE LA SOURCE. LE DIAGNOSTIC DE SPECTROSCOPIE VISIBLE PERMET DE METTRE EN EVIDENCE A L'INTERIEUR DU PLASMA ET DE MANIERE PASSIVE L'EVOLUTION DES PARTICULES NEUTRES ET DES IONS, AINSI QUE LA PRESENCE D'ATOMES (D'IONS) FORTEMENT EXCITES. L'ETUDE DE RAPPORTS D'INTENSITE DE RAIES D'EMISSION DE L'HELIUM EST REALISEE, AFIN D'ETABLIR L'ORDRE DE GRANDEUR DE L'ENERGIE MOYENNE DES ELECTRONS DU PLASMA. UNE ETUDE SIMILAIRE EFFECTUEES SUR DES RAIES DE L'ARGON MONTRE DE MANIERE QUALITATIVE QUE LA TEMPERATURE ELECTRONIQUE EST PLUS FORTE EN MELANGE DE GAZ QU'EN ARGON PUR. A PARTIR DE L'ETUDE DE LA LARGEUR A MI HAUTEUR DES RAIES D'EMISSION, ON VERIFIE POUR LA PREMIERE FOIS DANS DES SOURCES D'IONS DE FORT CONFINEMENT MAGNETIQUE, QUE LA TEMPERATURE IONIQUE EST FAIBLE ET RESULTE DE L'ECHANGE D'ENERGIE ENTRE LES ELECTRONS ET LES IONS ET D'UN EFFET D'ACCELERATION DES IONS PAR DES CHAMPS ELECTRIQUES
Author: THIERRY.. LAGARDE
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Languages : fr
Pages : 296
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L'OBJECTIF DE CETTE THESE EST UNE MEILLEURE COMPREHENSION DES MECANISMES DE PRODUCTION ET DE DIFFUSION DU PLASMA DANS LES STRUCTURES A LA RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE REPARTIE (RCER). LA PRODUCTION D'UN PLASMA UNIFORME N'EST POSSIBLE AVEC LES MICROONDES QUE PAR LE CHOIX D'UNE CONFIGURATION MAGNETIQUE PERMETTANT L'ETABLISSEMENT D'ONDES STATIONNAIRES D'AMPLITUDE CONSTANTE LE LONG DE LA STRUCTURE MULTIPOLAIRE. LA STRUCTURE RCERU, DANS LAQUELLE LA ZONE DE PROPAGATION DES MICROONDES EST DISSOCIEE SPATIALEMENT DE LA ZONE RCE D'ABSORPTION, PERMET AINSI DE PRODUIRE UN PLASMA DENSE ET UNIFORME AVEC DES PUISSANCES REDUITES D'UN FACTEUR DE L'ORDRE D'UNE DECADE POUR UNE MEME DENSITE. L'ETUDE EFFECTUEE DANS LE TERME SOURCE MET EN EVIDENCE L'EXISTENCE DE DEUX POPULATIONS ELECTRONIQUES A SAVOIR UNE POPULATION D'ELECTRONS CHAUDS ET UNE POPULATION D'ELECTRONS FROIDS ; L'EXISTENCE DE ZONES PRIVILEGIEES DE PRODUCTION ET DE DIFFUSION DES IONS A ETE CONFIRMEE PAR FLUORESCENCE INDUITE LASER QUI A PERMIS, EN OUTRE, DE MESURER LES VITESSES DE DIFFUSION ET DE DERIVE DES IONS DANS LA GAINE MAGNETIQUE MULTIPOLAIRE. CEPENDANT, LA DETERMINATION DE LA TEMPERATURE IONIQUE EST IMPOSSIBLE DANS LA ZONE DE FORTS CHAMPS MAGNETIQUES A CAUSE DE L'ELARGISSEMENT ARTIFICIEL DES RAIES PAR EFFET CYCLOTRONIQUE. CETTE ETUDE NOUS A CONDUIT A PROPOSER UN MODELE PHYSIQUE DE LA DIFFUSION DU PLASMA A PARTIR DE LA ZONE SOURCE. PAR AILLEURS, L'AUGMENTATION DE LA DENSITE CRITIQUE SUIVANT LE CARRE DE LA FREQUENCE D'EXCITATION DEMONTRE L'INTERET D'ACCROITRE CETTE DERNIERE POUR OBTENIR DES PLASMAS DENSES. ENFIN, L'APPLICATION DE CES PLASMAS A L'ETUDE PARAMETRIQUE DE LA GRAVURE DE LA SILICE EN PLASMA FLUORE A PERMIS DE VERIFIER QUE, LORSQUE LES PARAMETRES D'INTERACTION PLASMA-SURFACE SONT IDENTIQUES, LA CONFIGURATION DE LA SOURCE ET LA FREQUENCE D'EXCITATION NE MODIFIENT PAS DE FACON MESURABLE LES CINETIQUES DE GRAVURE. L'ENSEMBLE DES RESULTATS EXPERIMENTAUX OUVRE DES PERSPECTIVES POUR LA SIMULATION NUMERIQUE DE LA ZONE D'ACCELERATION DES ELECTRONS DANS UN CHAMP MAGNETIQUE ET HYPERFREQUENCE
Author: CARMEN-IULIANA.. CIUBOTARIU
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Languages : fr
Pages : 230
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L'ETUDE D'UNE SOURCE DE PLASMA A EXCITATION MICRO-ONDES (MW), CHAUFFAGE A LA RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE (RCE) ET CONFINEMENT MAGNETIQUE MULTIPOLAIRE (C.M.M.) AVAIT COMME BUT LA CREATION D'IONS H#- ET LA PRODUCTION D'UN PLASMA DENSE D'HYDROGENE ET D'ARGON, DANS LE PETIT (1,7 L) GENERATEUR ECRIN (ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE IONS NEGATIFS). LE NOUVEAU DISPOSITIF EST FORME DE L'APPLICATEUR MW (2,45 GHZ, TE#1#0, CHAMP ELECTRIQUE MAXIMUM 240 V/CM A 500 W), D'AIMANTS PERMANENTS A L'ENTREE MW (ZONE RCE PRIMAIRE), DE LA CHAMBRE CYLINDRIQUE ECRIN (CAVITE MULTI-MODES) A C.M.M. (ZONE RCE SECONDAIRE) ET LE NOUVEAU SYSTEME D'ELECTRODES DE FORMATION, D'EXTRACTION ET D'ACCELERATION DU FAISCEAU DE PARTICULES NEGATIVES. LE REGIME D'ONDE STATIONNAIRE OBSERVE DANS H#2 A 4 MTORR, POURRAIT CORRESPONDRE A UNE TRANSITION ENTRE UN REGIME DE FONCTIONNEMENT D'ECRIN OU LE PLASMA A UN PROFIL RADIAL POINTU, ET UN REGIME A PROFIL PLAT, OU LA DENSITE EST QUASI-UNIFORME. LES TRANSITIONS ENTRE LES MODES HYBRIDES QUI APPARAISSENT DANS LE SYSTEME PROPAGATIF (ENCEINTE+PLASMA) NE PEUVENT PAS ETRE PREVUES EN RAISON DE LA DIFFICULTE DE FORMULER UN MECANISME DE LA DECHARGE, VU LE CARACTERE DYNAMIQUE NON-LINEAIRE DE L'IMPEDANCE DU PLASMA. LES PARAMETRES PLASMA SONT MESURES PAR SONDE ET PAR ANALYSEUR ELECTROSTATIQUE. DEUX POPULATIONS POUR LES ELECTRONS ET POUR LES IONS POSITIFS, D'ENERGIES ET DE TEMPERATURES DIFFERENTES, ONT ETE MISES EN EVIDENCE. CES RESULTATS ENCOURAGENT L'UTILISATION D'ECRIN COMME SOURCE D'IONS NEGATIFS H#- EN VOLUME. LA SPECTROSCOPIE D'EMISSION, LA FLUORESCENCE LASER SERAIENT NECESSAIRES POUR CARACTERISER LA DECHARGE. LE PHOTODETACHEMENT LASER (UNE APPROCHE HYBRIDE FLUIDE-CINETIQUE DE LA REPONSE D'UN PLASMA D'HYDROGENE AU PHOTODETACHEMENT LASER EST AUSSI PRESENTEE) ET LA SPECTROMETRIE DE MASSE POURRAIT CARACTERISER LES IONS H#-. ECRIN PEUT DEVENIR UN MODELE DE SOURCE COMPACTE DE PROTONS A LA RCE OU UN REACTEUR PLASMA MW POUR L'IMPLANTATION IONIQUE PAR FAISCEAU OU PAR IMMERSION
Author: Cécile Perret
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ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 200
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Book Description
CETTE THESE PRESENTE DEUX APPROCHES DE CARACTERISATION DE LA POPULATION ELECTRONIQUE D'UN PLASMA DE SOURCE D'IONS A RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE. DES MESURES EFFECTUEES SUR UNE SOURCE DEDIEE A L'ETUDE DU PLASMA ONT PERMIS DE DETERMINER LA DENSITE ELECTRONIQUE, LE POTENTIEL PLASMA ET LE CONTENU ENERGETIQUE. L'ENSEMBLE DE CES MESURES A MONTRE QUE LA POPULATION ELECTRONIQUE N'EST PAS UNE MAXWELLIENNE. LES COLLISIONS NE SONT PAS SUFFISANTES POUR THERMALISER LES ELECTRONS CHAUFFES PAR L'ONDE H.F.. IL APPARAIT DONC UNE QUEUE D'ELECTRONS TRES ENERGETIQUES DANS LA FONCTION DE DISTRIBUTION ELECTRONIQUE. CES ELECTRONS ENERGETIQUES DONT LE TEMPS DE VIE EST IMPORTANT SONT RESPONSABLES DES BONNES PERFORMANCES ET DES HAUTS ETATS DE CHARGE OBTENUS DANS CES SOURCES D'IONS A RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE. LA DISTRIBUTION DES ELECTRONS PEUT EGALEMENT ETRE DETERMINEE A PARTIR D'UNE APPROCHE THEORIQUE. CETTE THESE DEVELOPPE LA MISE EN EQUATION DES PHENOMENES PHYSIQUES QUI REGISSENT L'EVOLUTION DE LA POPULATION ELECTRONIQUE : LES COLLISIONS COLOMBIENNES ENTRE PARTICULES, L'INTERACTION DES ELECTRONS AVEC L'ONDE H.F. ET L'IONISATION DES IONS ET ATOMES DU PLASMA. L'EQUATION ETABLIE A ENSUITE ETE TRAITEE DE FACON NUMERIQUE EN EFFECTUANT UN CERTAIN NOMBRE D'HYPOTHESES. LES RESULTATS OBTENUS AVEC CES CODES DE CALCUL ONT MISE EN EVIDENCE DES PHENOMENES DE SATURATION QUI PEUVENT EXPLIQUER LES LIMITATIONS RENCONTREES PAR LES SOURCES D'IONS ACTUELLES. CES RESULTATS SONT EN ACCORD AVEC LES RESULTATS EXPERIMENTAUX. CETTE THESE A DONC PERMIS DE CONFIRMER LE FAIT QUE LA DISTRIBUTION EN VITESSE DES ELECTRONS N'EST PAS UNE MAXWELLIENNE. LE CODE DE CALCUL PERMET D'AVOIR LA DISTRIBUTION DES ELECTRONS EN FONCTION DE PARAMETRES D'ENTRE LIES A LA GEOMETRIE DE LA SOURCE ET AUX REGLAGES DE FONCTIONNEMENT. POUR LA PREMIERE FOIS, LA DENSITE ELECTRONIQUE D'UN PLASMA DE SOURCE D'IONS A RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE A ETE OBTENUE A LA FOIS EXPERIMENTALEMENT ET THEORIQUEMENT.
Author: JEAN-PIERRE.. KLEIN
Publisher:
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Languages : fr
Pages : 128
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UN DOUBLE ANALYSEUR ELECTROSTATIQUE A CYLINDRE A ETE MIS AU POINT POUR ETUDIER PRINCIPALEMENT LA POPULATION ELECTRONIQUE DU CONE DE PERTE ; L'ETUDE DE LA POPULATION IONIQUE A EGALEMENT PERMIS DE DETERMINER LE POTENTIEL PLASMA. LA POSSIBILITE D'APPLIQUER DEUX POTENTIELS D'ANALYSE LE LONG DE LA DECROISSANCE DE CHAMP MAGNETIQUE A L'EXTRACTION A PERMIS DE DETERMINER L'ANISOTROPIE DE LA FONCTION DE DISTRIBUTION ELECTRONIQUE, DE TEMPERATURES PARALLELE TPAR ET PERPENDICULAIRE TPER, A LA SORTIE DE LA SOURCE. LA TEMPERATURE TPAR RESTE DANS TOUS LES CAS VOISINE DE 10 EV ALORS QUE TPER PASSE DE 30 EV A 150 EV LORSQUE L'ON AMELIORE LES CONDITIONS DE CONFINEMENT. LE CHAUFFAGE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE COMMUNIQUE AUX ELECTRONS UNE VITESSE ESSENTIELLEMENT PERPENDICULAIRE AU CHAMP MAGNETIQUE V#P#E#R. CELLE-CI EST PROGRESSIVEMENT CONVERTIE EN VITESSE PARALLELE PRINCIPALEMENT SUITE A DES COLLISIONS AVEC LES IONS. CES ELECTRONS SORTENT DE LA SOURCE AVEC UNE FREQUENCE DE COLLISION EN V#-#3#P#E#R. EN PRENANT UNE MAXWELLIENNE DE TEMPERATURE T#C#E#N#T#P#E#R POUR DECRIRE LA FONCTION DE DISTRIBUTION ELECTRONIQUE F#C#E#N#T (V#P#E#R) AU CENTRE DE LA SOURCE UN BON ACCORD EST OBTENU AVEC LA CARACTERISTIQUE EXPERIMENTALE EFFECTUEE A L'AIDE D'UN SEUL POTENTIEL D'ANALYSE. LES TEMPERATURES OBTENUES PEUVENT ATTEINDRE 2 KEV A 10 GHZ ET 6 KEV A 18 GHZ. DES MESURES DE DENSITE ET DE DIAMAGNETISME ONT PERMIS DE PRECISER LA PLACE QU'OCCUPENT CES ELECTRONS TIEDES: ILS DOMINENT EN NOMBRE MAIS QUITTENT LE PLASMA BEAUCOUP PLUS RAPIDEMENT QUE LES ELECTRONS CHAUDS (QUE L'ON ETUDIE A L'AIDE DES X). POUR CETTE RAISON LEUR DENSITE D'ENERGIE EST NETTEMENT INFERIEURE A CELLE DE LA POPULATION CHAUDE MAIS ILS CONSOMMENT UNE GRANDE PARTIE DE LA PUISSANCE HF INJECTEE
Author: Ahmed Belasri
Publisher: Springer Nature
ISBN: 9811554447
Category : Technology & Engineering
Languages : en
Pages : 659
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Book Description
This book highlights peer reviewed articles from the 1st International Conference on Renewable Energy and Energy Conversion, ICREEC 2019, held at Oran in Algeria. It presents recent advances, brings together researchers and professionals in the area and presents a platform to exchange ideas and establish opportunities for a sustainable future. Topics covered in this proceedings, but not limited to, are photovoltaic systems, bioenergy, laser and plasma technology, fluid and flow for energy, software for energy and impact of energy on the environment.
Author: John Heebner
Publisher: Springer Science & Business Media
ISBN: 0387730672
Category : Science
Languages : en
Pages : 275
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Book Description
Optical Micro-Resonators are an exciting new field of research that has gained prominence in the past few years due to the emergence of new fabrication technologies. This book is the first detailed text on the theory, fabrication, and applications of optical micro-resonators, and will be found useful by both graduate students and researchers in the field.
Author: OECD
Publisher: OECD Publishing
ISBN: 9264545190
Category :
Languages : en
Pages : 152
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Book Description
The artificial intelligence (AI) landscape has evolved significantly from 1950 when Alan Turing first posed the question of whether machines can think. Today, AI is transforming societies and economies. It promises to generate productivity gains, improve well-being and help address global challenges, such as climate change, resource scarcity and health crises.
