Technologie et étude de dépôts en couche mince, obtenus par plasma PDF Download
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Author: Janine Gleizes
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Languages : fr
Pages : 42
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Author: Janine Gleizes
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Languages : fr
Pages : 42
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Author: Joseph Membrives
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Category :
Languages : fr
Pages : 52
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Book Description
Emploi des réactions gaz-gaz en vue de décomposer dans un plasma d'azote à basse pression du chlorure de bore pour obtenir des couches minces de nitrure de bore sur un support en acier inoxydable par réaction solide-gaz. Une approche théorique des phénomènes de diffusion dans le jet et une étude des couches limites dynamique et de concentrations ont montré que l'épaisseur de la couche était en bon accord avec l'expérience.
Author: KARINE.. AUMAILLE
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Category :
Languages : fr
Pages : 215
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CE TRAVAIL EST CONSACRE A L'ETUDE DE LA FRAGMENTATION DE MOLECULES ORGANOSILICIEES DANS DES PLASMAS BASSE PRESSION (2 MTORR) DE MELANGE OXYGENE/ORGANOSILIE OBTENUS DANS UN REACTEUR HELICON (13,56 MHZ). LES TROIS ORGANOSILICIES RETENUS POUR CETTE ETUDE COMPARATIVE SONT : LE TETRAETHOXYSILANE, L'HEXAMETHYLDISILOXANE ET L'HEXAMETHYLDISILAZANE NOTES, RESPECTIVEMENT, TEOS SI(OC 2H 5) 4, HMDSO (CH 3) 3SIOSI(CH 3) 3 ET HMDSN (CH 3) 3SINHSI(CH 3) 3. DANS LE BUT DE COMPRENDRE LA CINETIQUE DE FRAGMENTATION DES MOLECULES ORGANOSILICIEES, NOUS AVONS ETE AMENES A ETUDIER, PAR SPECTROMETRIE DE MASSE, L'INFLUENCE DE PLUSIEURS PARAMETRES TELS QUE LA PUISSANCE, LA NATURE DU GAZ ADDITIF ET LA FRACTION D'ORGANOSILICIE, SUR LA COMPOSITION IONIQUE ET NEUTRE DU PLASMA. EN PARALLELE, LA SPECTROSCOPIE D'EMISSION OPTIQUE A ETE UTILISEE POUR IDENTIFIER LES ESPECES EXCITEES RADIATIVES DE LA PHASE GAZEUSE. NOUS AVONS AINSI PU COMPARER LES RESULTATS OBTENUS PAR SPECTROMETRIE DE MASSE AVEC CEUX DEDUITS DE LA SPECTROSCOPIE D'EMISSION OPTIQUE. EN PARALLELE A CETTE CARACTERISATION DU PLASMA, LES FILMS ONT ETE ANALYSES AFIN DE COMPRENDRE LA CORRELATION ENTRE LES PARAMETRES DU PROCEDE PLASMA, LA COMPOSITION DU PLASMA ET LA STRUCTURE DES COUCHES DEPOSEES. LES PROPRIETES OPTIQUES (INDICE DE REFRACTION ET COEFFICIENT D'EXTINCTION) ET LA VITESSE DE CROISSANCE DE CES MATERIAUX ONT ETE DETERMINEES PAR ELLIPSOMETRIE SPECTROSCOPIQUE UV-VISIBLE. LA SPECTROSCOPIE D'ABSORPTION INFRAROUGE ET LA SPECTROSCOPIE DE PHOTOELECTRONS X NOUS ONT PERMIS D'OBSERVER LES VARIATIONS DE COMPOSITION DES FILMS SELON LES CONDITIONS D'ETUDE.
Author: Gae͏̈l Borvon
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Languages : fr
Pages : 265
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L'objet de cette étude est le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) de films minces à faible constante diélectrique pour des applications en technologies CMOS. Les couches minces sont déposées à basse température (
Author: Pascal Couderc
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Languages : fr
Pages : 177
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ETUDE DU DEPOT DE COUCHES MINCES DE CARBONE AMORPHE PAR CVD PLASMA, DANS UN MELANGE A 13,56 MHZ OU 50 KHZ, A PARTIR DE CH::(4) OU C::(6)H::(6)-HE. ANALYSE DU COMPORTEMENT ELECTRIQUE DES DECHARGES, DE LA CINETIQUE DE CROISSANCE, DE LA STRUCTURE ET DES PROPRIETES DES COUCHES A-C:H. PROPOSITION D'UN MODELE POUR LA CINETIQUE DE CROISSANCE ET D'UN MODELE STRUCTURAL
Author: Philippe Laporte (auteur d'une thèse de sciences.)
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Languages : fr
Pages : 149
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Author: Mohamed Latreche
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Languages : fr
Pages : 172
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LE TRAVAIL PRESENTE S'INTERESSE A LA CARACTERISATION DE PLASMAS DE DEPOT ET L'ANALYSE DE COUCHES MINCES ORGANOSILICIES OBTENUES DANS UN PLASMA MULTIPOLAIRE A RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE REPARTIE (RCER). LA PREMIERE PARTIE DE CE TRAVAIL PORTE SUR LA DETERMINATION DES PARAMETRES ELECTRIQUES DU PLASMA PAR SONDE DE LANGMUIR ET L'ETUDE DE LEUR COMPORTEMENT EN FONCTION DES PARAMETRES DE LA DECHARGE. NOUS NOUS SOMMES INTERESSES PARTICULIEREMENT AUX PLASMAS DE TETRAETHOXYSILANE (TEOS) ET DE L'HEXAMETHYLDISILOXANE (HMDS). L'ETUDE DE L'EVOLUTION DE LA DENSITE ELECTRONIQUE EN FONCTION DE LA PUISSANCE MONTRE L'EXISTENCE DE DEUX REGIMES DE FONCTIONNEMENT POUR TOUS LES PLASMAS ETUDIES. LA TEMPERATURE ELECTRONIQUE EST PEU INFLUENCEE PAR LES CONDITIONS PLASMA DANS LE CAS DU TETRAETHOXYSILANE ET DE L'HEXAMETHYLDISILOXANE. LA SECONDE PARTIE EST CONSACREE A L'ANALYSE DE LA PHASE GAZ DU PLASMA. LA SPECTROMETRIE DE MASSE MONTRE QUE LES MONOMERES SONT FORTEMENT FRAGMENTES (PLUS DE 95% A PARTIR DE 100 WATT). LA SPECTROSCOPIE D'EMISSION OPTIQUE MET EN EVIDENCE L'ABONDANCE DU GROUPEMENT CO#+ DANS LE PLASMA TETRAETHOXYSILANE, ALORS QU'IL EST QUASIMENT INEXISTANT DANS LE PLASMA D'HEXAMETHYLDISILOXANE. LE PLASMA DU MELANGE HEXAMETHYLDISILOXANE-OXYGENE EST SEMBLABLE A CELUI DU TETRAETHOXYSILANE PUR. LES STRUCTURES DES DEPOTS OBTENUS SONT ASSEZ PROCHES. L'ETUDE DE L'EVOLUTION DE LA VITESSE DE CROISSANCE DES FILMS, DE LEUR STRUCTURE ET COMPOSITION EST TRAITEE DANS LA TROISIEME PARTIE. LES ANALYSES DES COUCHES DEPOSEES ONT MONTRE QUE L'INTRODUCTION DE L'OXYGENE DANS LE PLASMA ET LA POLARISATION DU SUBSTRAT CONTRIBUENT A L'ELIMINATION DES PARTIES ORGANIQUES INCORPOREES DANS LES DEPOTS
Author: Charafeddine Jama
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Languages : en
Pages : 346
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Ce travail se rapporte à l'étude de la réactivité spécifique de la post décharge micro onde d'azote en écoulement. Celle-ci est mise à profit pour améliorer les performances d'adhésion de différents matériaux (poly éther-éther-cetone, carbone graphite, polyéthylènetéréphtalate et polycarbonate). L'incorporation en surface d'azote et d'oxygène après traitement par plasma d'azote du matériau est mise en évidence alors que seul l'oxygène est détecte lorsque ce plasma est dope d'oxygène. Sur la base des résultats des caractérisations XPS et ellipsometrie IR un mécanisme de fonctionnalisation du polycarbonate par plasma d'azote est propose. Ce procédé de post décharge d'azote est également utilisé pour la synthèse de dépôts en couches minces par polymérisation de composés organosilicés volatils. L'addition d'oxygène au monomère entraîne une très forte augmentation de la vitesse de dépôt. Des films denses et isolants sont déposés à température ambiante avec des vitesses de croissance pouvant atteindre 300 Angströms/s. Des études par spectroscopies IR et Raman permettent d'établir que les films obtenus à partir des alkoxysilanes sont de type Si O2 amorphe. Des films de type polysiloxazanes sont obtenus en présence du Tétraméthyldisilazane. Les réactions de la phase gazeuse sont proposées à la lumière des résultats en spectroscopie optique d'émission. La modification de la composition chimique de la surface du dépôt obtenu à partir du Tétraméthyldisiloxane (TMDS) après vieillissement dans le plasma entraîne la formation en surface d'une structure proche de la silice. Les dépôts issus du TMDS se révèlent être d'efficaces barrières à la diffusion d'espèces ioniques contenues dans des bouchons caoutchouteux à usage pharmaceutique. Des travaux préliminaires concernent l'élaboration de dépôts durs et nitrure de carbone de type CNx par plasma d'azote induit par laser infrarouge.
Author: SEBASTIEN.. MAGNAVAL
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Languages : fr
Pages : 224
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CE TRAVAIL OUVRE LE CHAMP EXPLORATOIRE DE L'ELABORATION DE COUCHES MINCES DE SILICIUM PAR DEPOT RAPIDE EN PLASMA THERMIQUE. L'OBJECTIF RECHERCHE EST L'OBTENTION D'UN MATERIAU DE HAUTE PURETE A PROPRIETE SEMICONDUCTRICE DANS LE CADRE DES APPLICATIONS PHOTOVOLTAIQUES. L'ETUDE EFFECTUEE EST CENTREE SUR LA MISE AU POINT D'UN PROCEDE DE FUSION DE PARTICULES DE SILICIUM DE DIAMETRES INITIALS VARIABLES (50 A 200 M) PAR TRANSFERT THERMIQUE ENTRE LE PLASMA ARGON/HYDROGENE ET LA PARTICULE. L'HYDRODYNAMIQUE DE L'ECOULEMENT, LES PROPRIETES DE TRANSPORT DU PLASMA, LES PROPRIETES PHYSIQUES DU MATERIAU CONSTITUENT LES PREMIERES ETAPES DU TRAVAIL A ANALYSER. IL CONVIENT EN PARTICULIER DE MESURER LE TEMPS DE SEJOUR DES PARTICULES DANS LES CHAMPS DE TEMPERATURES DU JET PLASMA ENGENDRE PAR LA TORCHE RF. CETTE ETUDE EXPERIMENTALE ASSOCIANT ANEMOMETRIE DOPPLER LASER, POUR LA MESURE DES VITESSES, ET EMISSION ATOMIQUE DES ESPECES DANS LE PLASMA, PERMET DE SUIVRE LES ECHANGES DE MATIERE SUR LA TRAJECTOIRE DES PARTICULES ET PAR LA MEME, PERMET DE REMONTER AUX ECHANGES DE CHALEUR RESPONSABLES DES PROCESSUS DE FUSION, D'EVAPORATION ET DE PURIFICATION DU MATERIAU. LA NATURE DU GAZ PLASMAGENE ET EN PARTICULIER LA TENEUR EN HYDROGENE DU MELANGE ARGON/HYDROGENE CONSTITUE UNE ETAPE IMPORTANTE PUISQU'ELLE AGIT SIMULTANEMENT SUR LES PHENOMENES DE TRANSFERT DE CHALEUR ET SUR LE PROCESSUS DE MODIFICATION CHIMIQUE DU MATERIAU (REDUCTION DES OXYDES, DIFFUSION DE L'HYDROGENE A CUR). LA QUALIFICATION DES COUCHES OBTENUES PAR MEB, XPS ET SPECROSCOPIE DE MASSE A PARTIR D'ECHANTILLONS TESTS PERMET DE RELIER LE PROCEDE DE FUSION ET L'ELABORATION D'UN MATERIAU COUCHE MINCE.
Author: Régis Delsol
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 184
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LE SUJET PORTE SUR L'ETUDE DES VITESSES DE CROISSANCE ET SUR LA CARACTERISATION DE COUCHES MINCES ORGANOSILICIEES, OBTENUES DANS UN PLASMA MULTIPOLAIRE A RESONANCE CYCLOTRONIQUE ELECTRONIQUE REPARTIE. LE MILIEU GAZEUX EST COMPOSE DE TETRAETHYLORTHOSILICATE ET D'OXYGENE MOLECULAIRE. DANS LA PREMIERE PARTIE DU SUJET, LES COEFFICIENTS DE DISSOCIATION APPARENTS DU TETRAETHYLORTHOSILICATE ET DE L'OXYGENE MOLECULAIRE SONT MESURES PAR SPECTROMETRIE DE MASSE. DES LES FAIBLES PUISSANCES (100 WATT), LE TETRAETHYLORTHOSILICATE EST TOTALEMENT DISSOCIE. EN REVANCHE, 50% DE L'OXYGENE ATOMIQUE RESTE DETECTABLE POUR UNE PUISSANCE DE 800 WATT. LES PRESSIONS DE TRAVAIL SONT COMPRISES ENTRE 0,05 PA ET 0,2 PA. AU-DESSOUS DE CES VALEURS LA DECHARGE NE PEUT SE DECLENCHER, AU-DESSUS LES COLLISIONS EMPECHENT L'EXTENSION DU PLASMA DANS LE REACTEUR. A PARTIR DE CES OBSERVATIONS ET DE LA MESURE DES VITESSES DE CROISSANCE POUR DIVERSES CONDITIONS D'ELABORATION (PRESSION, PUISSANCE, COMPOSITION DU MELANGE GAZEUX), UN MODELE DE CROISSANCE EST PROPOSE. IL SUPPOSE UNE RECOMBINAISON DES RADICAUX ORGANOSILICIES DE LA PHASE GAZEUSE SUR LES SURFACES, ET UN PHENOMENE DE GRAVURE DES FILMS PAR L'OXYGENE ATOMIQUE DE LA DECHARGE. DANS LA DEUXIEME PARTIE DU SUJET, UNE POLARISATION RADIO-FREQUENCE EST IMPOSEE AUX SUBSTRATS TRAITES. LES COUCHES DEPOSEES SONT ANALYSEES PAR SPECTROSCOPIE INFRA-ROUGE EN TRANSMISSION ET CARACTERISEES PAR MESURES DIELECTRIQUES. L'EFFET DE SYNERGIE ENTRE LA GRAVURE CHIMIQUE PAR L'OXYGENE ATOMIQUE ET LE BOMBARDEMENT IONIQUE DU A LA POLARISATION DES SUBSTRATS, ELIMINE LA PARTIE ORGANIQUE DES FILMS. DES COUCHES DE TYPE SIOX SONT OBTENUES. LES PROPRIETES DIELECTRIQUES DE CES COUCHES DEPENDENT DES CONDITIONS D'ELABORATION ET DE LA POLARISATION DES SUBSTRATS. POUR UN PLASMA CONTENANT 75% D'OXYGENE MOLECULAIRE ET 25% DE TETRAETHYLORTHOSILICATE ET POUR UNE POLARISATION DE -20V, LES FILMS OBTENUS SONT PROCHES DE LA SILICE THERMIQUE (PERMITTIVITE RELATIVE DE 4 ET PERTES DIELECTRIQUES DE 4 10#-#3 A 1 KHZ)
