INFLUENCE DU PLASMA SUR LA STRUCTURE DES COUCHES MINCES DE TANTALE OBTENUES PAR PULVERISATION CATHODIQUE

INFLUENCE DU PLASMA SUR LA STRUCTURE DES COUCHES MINCES DE TANTALE OBTENUES PAR PULVERISATION CATHODIQUE PDF Author: D.. COLLOBERT
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages :

Get Book Here

Book Description
PRINCIPES DE LA PULVERISATION CATHODIQUE, ET ETUDE DES DIFFERENTS TYPES SUIVANTS DISPOSITIF DIODE CONTINU, DISPOSITIF HAUTE FREQUENCE, DISPOSITIF TRIODE CONTINU, "BIAS SPUTTERING". INTERET D'UNE ETUDE CONCERNANT LA PULVERISATION DE TANTALE (PROPRIETES ELECTRIQUES INTERESSANTES POUR LES COMPOSANTS PASSIFS; TAN UTILISE POUR LES CIRCUITS RESISTIFS ET TA::(2)O::(5) UTILISE POUR LES CIRCUITS CAPOCITIFS), EXISTENCE DE PLUSIEURS FORMES CRISTALLINES POUR LE TANTALE EN COUCHE MINCE. ETUDE DES PARAMETRES QUI AGISSENT SUR LA CREATION D'UNE COUCHE MINCE DE TA (MATIERE DU TANTALE BETA ET FACTEURS QUI INFLUENT SUR SON DEPOT, ETUDE DES PLASMAS DE PULVERISATION)

Couches minces d'oxynitrure de tantale déposées par pulvérisation réactive. Étude du système Ta-Ar-O2-N2 et caractérisation des films

Couches minces d'oxynitrure de tantale déposées par pulvérisation réactive. Étude du système Ta-Ar-O2-N2 et caractérisation des films PDF Author: Fadi Zoubian
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 0

Get Book Here

Book Description
Le but de ce travail de thèse est d'étudier les propriétés d'un plasma réactif ainsi que les caractéristiques structurales, optiques et électriques de couches minces d'oxynitrure de tantale (TaOxNy) élaborées par pulvérisation cathodique radiofréquence. L'élaboration de ce matériau ternaire par pulvérisation d'une cible de tantale au moyen d'un plasma contenant à la fois de l'argon, de l'oxygène et de l'azote est complexe en raison de phénomènes d'empoisonnement de la cible. L'analyse de la composition du plasma par spectroscopie d'émission optique et le suivi de l'évolution de certaines raies représentatives d'espèces excitées dans le milieu, nous ont permis de déterminer les conditions optimales au dépôt de films de types TaOxNy sur une large gamme de compositions. Grâce à une étude par diffraction des rayons X et spectroscopie de photoélectrons X, nous avons suivi les évolutions structurales de couches ayant subi ou non un recuit thermique. Nous avons montré de quoi étaient constituées les parties amorphes et cristallisées de ces films et déterminé la taille des domaines de cohérence. Enfin, les propriétés optiques (indice de réfraction, gap optique, paramètre d'Urbach) et diélectriques ont été corrélées à la structure des matériaux.

Dépôt de couches minces de tantale par pulvérisation et étude des interactions TA/SIO :(2) et TA/SI à basses températures

Dépôt de couches minces de tantale par pulvérisation et étude des interactions TA/SIO :(2) et TA/SI à basses températures PDF Author: Patrick Gallais
Publisher:
ISBN:
Category :
Languages : fr
Pages : 148

Get Book Here

Book Description
Analyse par spectrométrie Auger des couches déposées par pulvérisation cathodique sur des substrats de silicium ou d'oxyde de silicium pour des températures comprises entre 50 et 500c. Certains échantillons sont élaborés en bombardant la couche durant sa formation à l'aide d'ions argon du plasma. Etude de la nature chimique des interactions entre TA et SI ou SIO::(2).

Current Programs

Current Programs PDF Author:
Publisher:
ISBN:
Category : Engineering
Languages : en
Pages : 554

Get Book Here

Book Description