Dépôt de couches minces par plasma pulsé radiofréquence et basse pression en mélange hexaméthyldisiloxane

Dépôt de couches minces par plasma pulsé radiofréquence et basse pression en mélange hexaméthyldisiloxane PDF Author: Angélique Bousquet
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Languages : fr
Pages : 233

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L'objectif de cette thèse est d'étudier le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD), à basse pression (3mTorr) et basse température (

Mise au point, technologie et étude de dépôts en couche mince de nitrure de bore par plasma basse pression

Mise au point, technologie et étude de dépôts en couche mince de nitrure de bore par plasma basse pression PDF Author: Joseph Membrives
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Languages : fr
Pages : 52

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Emploi des réactions gaz-gaz en vue de décomposer dans un plasma d'azote à basse pression du chlorure de bore pour obtenir des couches minces de nitrure de bore sur un support en acier inoxydable par réaction solide-gaz. Une approche théorique des phénomènes de diffusion dans le jet et une étude des couches limites dynamique et de concentrations ont montré que l'épaisseur de la couche était en bon accord avec l'expérience.

DEPOT DE COUCHES MINCES D'OXYDE D'ETAIN PUR OU DOPE PAR PROCEDE PLASMA CVD BASSE PRESSION

DEPOT DE COUCHES MINCES D'OXYDE D'ETAIN PUR OU DOPE PAR PROCEDE PLASMA CVD BASSE PRESSION PDF Author: NICOLAS.. BAUDUIN
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Languages : fr
Pages : 268

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CE TRAVAIL CONCERNE L'ETUDE D'UN REACTEUR PLASMA BASSE PRESSION R.F. UTILISE POUR LE DEPOT, A PARTIR D'UN MELANGE ARGON - OXYGENE - TETRAMETHYLETAIN, DE COUCHES MINCES D'OXYDE D'ETAIN AUX PROPRIETES PHYSICO-CHIMIQUES, OPTIQUES ET ELECTRIQUES CONTROLEES. L'ETUDE DE LA PHASE PLASMA A L'AIDE D'UNE MODELISATION CINETIQUE, REACTIONNELLE ET ENERGETIQUE ET PAR SPECTROSCOPIE D'EMISSION SOULIGNE LE CARACTERE HORS EQUILIBRE DE LA DECHARGE (TEMPERATURE ELECTRONIQUE : 4 EV, TEMPERATURE DE VIBRATION : N 2(C) 3500 K ET N 2(X) 900K ET TEMPERATURE DE ROTATION : OH DE 350 K). D'AUTRE PART, LA SPECTROMETRIE DE MASSE MONTRE DANS LES CONDITIONS OPTIMALES DE DEPOT, LA FORTE DECOMPOSITION DE PRECURSEUR ORGANOMETALLIQUE (>90%) DONNANT LIEU A LA FORMATION D'ESPECES CARBONEES ET HYDROCARBONEES. LE FORT POUVOIR OXYDANT DE LA DECHARGE CONDUIT A LA FORMATION D'ESPECES OXYDEES DE TYPE CO, CO 2, H 2O, C XH YO Z. NOUS OBTENONS AINSI DES COUCHES EXEMPTES DE CARBONE AYANT UNE FORTE CONDUCTIVITE ELECTRIQUE (90 1.CM 1). L'ETUDE DE LA SYNTHESE DE COMPOSES MIXTES SNO 2-FLUOR MONTRE QU'UNE INCORPORATION TROP IMPORTANTE DE FLUOR (SOUS FORME DE SF 6) ENGENDRE UNE DEGRADATION DES PROPRIETES PHYSICO-CHIMIQUES DE LA COUCHE PAR DES PROCESSUS DE GRAVURE ET DE FONCTIONALISATION DU FILM AVEC CREATION DE LIAISONS SN-F. CEPENDANT, UN DOPAGE DES COUCHES EST OBTENU CARACTERISE PAR L'AUGMENTATION DE LA CONDUCTIVITE ELECTRIQUE (125 1.CM 1) DANS LE CAS DE TRES FAIBLES TENEURS DE SF 6. LES COMPOSES MIXTES SNO 2-ANTIMOINE SONT DES COUCHES D'OXYDE D'ETAIN CONTENANT DES ILOTS METALLIQUES D'ANTIMOINE OBTENUS PAR PULVERISATION D'UNE CATHODE D'ANTIMOINE. L'AUGMENTATION DU POURCENTAGE D'OXYGENE DANS LA DECHARGE ENGENDRE LA CHUTE DE LA PULVERISATION MAIS FAVORISE L'OXYDATION DU FILM CONDUISANT A DES COUCHES EXEMPTES DE CARBONE.

DEPOT PLASMA DANS UNE VAPEUR D'ORGANOMETALLIQUE DE FILMS MINCES D'OXYDES D'ALUMINIUM

DEPOT PLASMA DANS UNE VAPEUR D'ORGANOMETALLIQUE DE FILMS MINCES D'OXYDES D'ALUMINIUM PDF Author: ALI-ASGHAR.. TALEBIAN
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Languages : fr
Pages : 123

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MISE AU POINT D'UN REACTEUR POUR LA CROISSANCE DE COUCHES MINCES D'OXYDES D'AL A BASSE TEMPERATURE. L'ATMOSPHERE DE DEPOT EST UN MELANGE AL(CH::(3))::(3)-CO::(2). LA CINETIQUE DE CROISSANCE DEPEND FORTEMENT DES PARAMETRES DE LA DECHARGE ELECTRIQUE. IMPORTANT EFFET DE LA TEMPERATURE DE DEPOT. PROPRIETES PHYSIQUES DE CES COUCHES

Dépôt de Couches Minces À Saut Et Gradient D'indice Par Plasma en Résonance Cyclotron

Dépôt de Couches Minces À Saut Et Gradient D'indice Par Plasma en Résonance Cyclotron PDF Author: Bicher Haj Ibrahim
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Languages : en
Pages : 163

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Élaboration par plasma d'hexaméthyldisiloxane de couches minces à faible constante diélectrique pour applications aux interconnexions en CMOS

Élaboration par plasma d'hexaméthyldisiloxane de couches minces à faible constante diélectrique pour applications aux interconnexions en CMOS PDF Author: Gae͏̈l Borvon
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Languages : fr
Pages : 265

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L'objet de cette étude est le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) de films minces à faible constante diélectrique pour des applications en technologies CMOS. Les couches minces sont déposées à basse température (

Dépôts en couches minces et traitements de surface assistés par plasma froid différé d'azote

Dépôts en couches minces et traitements de surface assistés par plasma froid différé d'azote PDF Author: Charafeddine Jama
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Languages : en
Pages : 346

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Ce travail se rapporte à l'étude de la réactivité spécifique de la post décharge micro onde d'azote en écoulement. Celle-ci est mise à profit pour améliorer les performances d'adhésion de différents matériaux (poly éther-éther-cetone, carbone graphite, polyéthylènetéréphtalate et polycarbonate). L'incorporation en surface d'azote et d'oxygène après traitement par plasma d'azote du matériau est mise en évidence alors que seul l'oxygène est détecte lorsque ce plasma est dope d'oxygène. Sur la base des résultats des caractérisations XPS et ellipsometrie IR un mécanisme de fonctionnalisation du polycarbonate par plasma d'azote est propose. Ce procédé de post décharge d'azote est également utilisé pour la synthèse de dépôts en couches minces par polymérisation de composés organosilicés volatils. L'addition d'oxygène au monomère entraîne une très forte augmentation de la vitesse de dépôt. Des films denses et isolants sont déposés à température ambiante avec des vitesses de croissance pouvant atteindre 300 Angströms/s. Des études par spectroscopies IR et Raman permettent d'établir que les films obtenus à partir des alkoxysilanes sont de type Si O2 amorphe. Des films de type polysiloxazanes sont obtenus en présence du Tétraméthyldisilazane. Les réactions de la phase gazeuse sont proposées à la lumière des résultats en spectroscopie optique d'émission. La modification de la composition chimique de la surface du dépôt obtenu à partir du Tétraméthyldisiloxane (TMDS) après vieillissement dans le plasma entraîne la formation en surface d'une structure proche de la silice. Les dépôts issus du TMDS se révèlent être d'efficaces barrières à la diffusion d'espèces ioniques contenues dans des bouchons caoutchouteux à usage pharmaceutique. Des travaux préliminaires concernent l'élaboration de dépôts durs et nitrure de carbone de type CNx par plasma d'azote induit par laser infrarouge.

Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma micro-ondes de couches minces d'oxydes

Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma micro-ondes de couches minces d'oxydes PDF Author: Pascal Tristant
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Languages : fr
Pages : 156

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ICREEC 2019

ICREEC 2019 PDF Author: Ahmed Belasri
Publisher: Springer Nature
ISBN: 9811554447
Category : Technology & Engineering
Languages : en
Pages : 659

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This book highlights peer reviewed articles from the 1st International Conference on Renewable Energy and Energy Conversion, ICREEC 2019, held at Oran in Algeria. It presents recent advances, brings together researchers and professionals in the area and presents a platform to exchange ideas and establish opportunities for a sustainable future. Topics covered in this proceedings, but not limited to, are photovoltaic systems, bioenergy, laser and plasma technology, fluid and flow for energy, software for energy and impact of energy on the environment.

UVX 94

UVX 94 PDF Author: Jean-Michele Pouvesle
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Category : High power lasers
Languages : fr
Pages : 324

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